AR-BR 5400

Zweilagensystem AR-BR 5400 – 3510 für Lift-off-Technik.

Das Zweilagensystem AR-BR 5400 – AR-P 3510 ist geeignet für die Erzeugung von
• optisch transparenten Strukturen (transparent von 270 nm bis zum IR)
• thermisch belastbaren Strukturen (bis 230 °C)
• lift-off-Strukturen.
Zuerst wird das PMMA-Copolymer AR-BR 5400 beschichtet. Auf die getemperte Copolymerschicht wird danach der Photoresist AR-P 3510 aufgetragen. Das Zweilagen-lifft-off-System ist wässrig-alkalisch entwickelbar. Die Resists sind in safer-solvent-Lösemittelgemischen gelöst. Die Resists AR-BR 5400 sind Copolymere auf der Basis Methylmethacrylat und Methacrylsäure hauptsächlich in 1-Methoxy-2-propanol.
Der AR-P 3510 ist eine Novolak – Naphthochinondiazid-Kombination hauptsächlich in 1-Methoxy-2-propyl-acetat.

Ausführliche Produktinformationen zum Download
» AR-BR 5400

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