AR-N 4300

Negativ-Photoresist für das mittlere UV (i-line) AR-N 4340.

Der AR-N 4340 ist ein hochempfindlicher, chemisch verstärkter Negativ – Photoresist, der für den Wellenlängenbereich von 300 – 390 nm, besonders für i-line geeignet ist. Darüber hinaus zeigt er im Tief-UV (248 – 265 nm) und bei g-line (436 nm) eine gute Empfindlichkeit.
Der AR-N 4340 zeichnet sich neben seiner hohen Lichtempfindlichkeit durch exzellentes Auflösungsvermögen sowie gute Haftung auf Metall- und Oxidflächen aus. Im Vergleich zum AR-N 4240 ist er bei einer Bestrahlung bei 365 nm (i-line) deutlich empfindlicher.
Die Entwicklung erfolgt wässrig-alkalisch. Durch eine geringfügige Variation des Entwicklerregimes kann der Negativresist auch für die Erzeugung von unterschnittenen Strukturen (lift-off) verwendet werden.
Der Resist besteht aus Novolak, lichtempfindlichen Säuregeneratoren und aminischen Komponenten, gelöst in einem safer-solvent-Lösemittelgemisch mit dem Hauptbestandteil 1-Methoxy-2-propyl-acetat.

Ausführliche Produktinformationen zum Download
» AR-N 4300

|

« Zurück zur Übersicht