AR-P 5900

AR-P 5900 ist ein positiv arbeitender Photoresist, der für die Erzeugung besonders alkaliresistenten Strukturen bzw. auch nur als Schutzlack geeignet ist. Diese Schichten sind über einen längeren Zeitraum in bis zu 2 n NaOH stabil. Zur Ausprägung ihrer Alkalistabilität verfügen die Resists über einen hohen Gehalt an der lichtempfindlichen Komponente Naphthochinondiazid. Damit können die Lacke auch strukturiert werden, verfügen jedoch nur über eine mäßige Empfindlichkeit. Die Resistschichten werden nach bildmäßiger Belichtung wässrig-alkalisch entwickelt. Die Resists besteht aus einer Novolak – Naphthochinondiazid – Kombination in einem safer-solvent- Lösemittelgemisch mit dem Hauptbestandteil 1-Methoxy-2-propyl-acetat.

 

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