AR-P 3100

Photoresistsysteme zur Maskenherstellung hoher Empfindlichkeit und hoher Haftfestigkeit AR-P 3100.

Die Positiv-Photoresists der Serie AR-P 3100 sind hochempfindliche Resists auf safer-solvent-Basis, mit denen sehr dünne Schichten erzeugt werden und die den höchsten Anforderungen an eine radialstreifenfreie Beschichtung genügen.
Die Resists AR-P 3110 und 3120 besitzen ein hervorragendes Haftvermögen auf kritischen Glas- und Chromflächen und sind für extreme Belastungen bei nasschemischen Prozessen ausgelegt.
Ursprünglich entwickelt für die diffraktive Optik und Maskenherstellung sind sie, bedingt durch ihre hohe Empfindlichkeit im Bereich über 450 nm, hervorragend für die Fertigung von CD-Mastern geeignet.
Die Resists bestehen aus einer Novolak – Naphthochinondiazid – Kombination in einem safer-solvent-Lösemittelgemisch mit dem Hauptbestandteil 1-Methoxy-2-propyl-acetat.

Ausführliche Produktinformation zum Download
» AR-P 3100

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