AR-U 4000

Image Reversal Resistsystem AR-U 4000.

Die Umkehrresists der Serie AR-U 4000 sind Photoresists auf safer-solvent-Basis, die je nach Verarbeitungsregime ein positives oder negatives Bild der optisch übertragenen Vorlage liefern und Strukturwiedergaben im Submikrometer-Bereich ermöglichen.
Ohne zusätzliche Prozessschritte arbeiten diese Umkehrresists positiv. Mit den Prozessschritten Umkehrtemperung (nach bildmäßiger Belichtung) und anschließender Flutbelichtung arbeiten diese Resists negativ und zeichnen sich dabei durch eine besonders kontrastreiche Stukturwiedergabe mit Kontrastwerten > 3 aus. Negativ arbeitend sind sie damit die einzigen wässrigalkalisch entwickelbaren Resists, die bis 450 nm belichtet werden können. In diesem Verfahren lassen sich auch stark unterschnittene Profile erzeugen, die für den Lift-off-Prozess hervorragend geeignet sind.
Der spektrale Arbeitsbereich liegt zwischen 308 nm und 450 nm.
Die Resists bestehen aus einer Novolak – Naphthochinondiazid – Kombination in einem safer-solvent- Lösemittelgemisch mit dem Hauptbestandteil 1-Methoxy-2-propyl-acetat.

Ausführliche Produktinformationen zum Download
» AR-U 4000

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