AR-P 6510

Die Resists der Serie AR-P 6510.12 – 19 sind Positivresists auf PMMA-Basis zur Erzeugung dicker PMMA-Schichten. Sie sind für Applikationen in der LIGA-Technik und für die Herstellung von Masken für die Röntgenstrahl-Lithographie konzipiert. Die Abbildungsgüte der Strukturen ist exzellent und man erhält absolut senkrechte Resistflanken.

Die PMMA-Resists besitzen auf Titanoxid eine ausgezeichnete Haftung, mit ihnen können Schichtdicken von 10 bis 250 μm realisiert werden.

Die Entwicklung der Resistschicht erfolgt in organischen Lösemittelgemischen.

Der Resist besteht aus hochmolekularen Polymethylmethacrylaten (PMMA) in einem safer-solvent- Lösemittelgemisch mit dem Hauptbestandteil 1-Methoxy-2-propyl-acetat.

Ausführliche Produktinformationen zum Download
» AR-P 6500

|

« Zurück zur Übersicht