AR-P 7400

Positiv – E-Beam Resist für mix & match AR-P 7400.
Der Elektronenstrahlresist AR-P 7400.23 ist ein Positiv-E-Beam Resist mittlerer Empfindlichkeit, der sich durch hohe Prozess- und Plasmaätzstabilität auszeichnet. Mix-&-match- Prozesse zwischen E-Beam- und UV-Belichtungen (Wellenlänge 310 – 450 nm) sind möglich.
Es sind auch reine UV-Belichtungen bei Wellenlängen zwischen 310 und 450 nm realisierbar. Die Entwicklung der Resistschicht erfolgt wässrig-alkalisch. Der Resist verfügt über einen hohen Kontrast (> 3), der von der Entwicklerkonzentration abhängt.
Die Hauptkomponenten der Resists bestehen aus einer Novolak-Naphthochinondiazid-Kombination in 1-Methoxy-2-propyl-acetat.

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