Forschung und Entwicklung

Allresist versteht sich als Schnittstelle zwischen Industrie und Forschung

Aus der Ambivalenz von Routinelieferungen von Standardprodukten und der Erfüllung von Produkt-Sonderwünschen resultiert eine tief greifende Kompetenz zum Nutzen aller Kunden.
Darüber hinaus bearbeiten wir seit Firmengründung langfristige Forschungsprojekte mit unseren Kooperationspartnern. Mittlerweile haben wir 12 Projekte erfolgreich abgeschlossen, die zu neuen Produkten führten.
Außerdem bearbeiten wir viele kleine FuE-Projekte auf speziellen Kundenwunsch hin. Daraus resultieren maßgeschneiderte Resists sowie Sonderanfertigungen und Experimentalmuster.

Abgeschlossene wissenschaftliche Projekte

2013 – 2014
Projekt: „VEGAS – Verfahren und Geräte für elektronisch bedruckbare Ausweiskarten mit Sicherheitsmerkmalen; Entwicklung funktionaler Strukturlacke“
Kooperationspartner: Firma Lüth & Dümchen, Berlin; Technische Universität Berlin; FhG Institut für angewandte Polymerforschung, Allresist GmbH
Ziel: SmartCards (Plastikkarten) mit mehrfach visuell erfassbaren Informationen mit Hilfe von speziellen Photoresists zu versehen

2012 – 2014
Projekt: „INNOPEP – Absicherung des Innovationserfolges in Produktentwicklung und Produktion“
Kooperationspartner: InMediasP GmbH, Hennigsdorf, ASG Luftfahrttechnik und Sensorik GmbH, Weinheim, BEAR Mühlen & Behälter GmbH, Berlin, Berliner Glas KGaA, Berlin, Fraunhofer-Institut für Produktionsanlagen und Konstruktionstechnik (IPK), Berlin, INPRO mbH, Berlin, MaTec Gummiwerk GmbH, Schwielowsee, Pumacy Technologies AG, Bernburg, TU Berlin, Universität Augsburg, CEPRA, Allresist GmbH
Ziel: „Erarbeitung Anwendungsszenarien, Innovationsabsicherung im Produktlebenszyklus, Bewertung, Validierung, Einführung und Verbreitung“

2013
Innovationsgutschein: „Entwicklung und Synthese von maßgeschneiderten elektrisch leitfähigen Polymeren als Resistbestandteil für die Maskenherstellung im Nanometerbereich“
Kooperationspartner: Institut für Dünnschichttechnologie und Mikrosensorik, Teltow, Allresist GmbH
Ziel: Elektrisch leitfähige Resistschichten für die E-Beamlithographie

2012
Innovationsgutschein: „Synthese von strukturoptimierten Copolymeren für den Einsatz in  innovativen Elektronenstrahlresists“
Kooperationspartner: Institut für Dünnschichttechnologie und Mikrosensorik, Teltow, Allresist GmbH
Ziel: Alternative zum ZEP-Resist – Entwicklung des CSAR 62

2011
Innovationsgutschein: „Entwicklung und Synthese maßgeschneiderter Bisazide für neue innovative Photoresists für langwellige Laserdirektbelichtungen“
Kooperationspartner: Institut für Dünnschichttechnologie und Mikrosensorik, Teltow, Allresist GmbH
Ziel: Innovative Photoresists für langwellige Laserdirektbelichtungen

2009 – 2011
Projekt: „Entwicklung vernetzbarer Epoxystyrene für OLED-, OFET- und Mikrostrukturierungsanwendungen“
Kooperationspartner: Fraunhofer-Institut für angewandte Polymerforschung, Allresist GmbH
Ziel: Leistungsfähige, langlebige OLED und OFET Devices

eu-flag „Das diesem Bericht zugrunde liegende Vorhaben wurde mit Mitteln des Ministeriums für Wirtschaft des Landes Brandenburg und der EU gefördert. Die Verantwortung für den Inhalt der Veröffentlichung liegt beim Autor.“

2008 – 2010
Projekt: „E-Beamresist für die Maskenherstellung“
Kooperationspartner: Martin-Luther-Universität, Halle, Allresist GmbH
Ziel: Empfindlicher, plasmaätzfester, hochauflösender und prozessstabiler E-Beamresist

2006 – 2008
Projekt: „Entwicklung eines vereinfachten Verfahrens zur Strukturierung von Si bzw. SiO2 mittels nasschemischer Methoden“
Kooperationspartner: Institut für Dünnschichttechnologie und Mikrosensorik e.V., Allresist GmbH
Ziel: Resistssysteme für HF- und KOH-Ätzungen in Glas bzw. Silizium

2006 – 2008
Projekt: „Nanostrukturen mittels Lift-off-Technik“
Kooperationspartner: Physikalisches Institut, Bayrische Julius-Maximilians-University, Würzburg, Allresist GmbH
Ziel: Sub-50-nm-Strukturen mittels Lift-off-Technik

2004 – 2006
Projekt: Resists für die LIGA- und Mikrosystemtechnik
Kooperationspartner: Bessy GmbH, Berlin, Allresist GmbH
Ziel: Resiststrukturen bis 500 µm Schichtdicke

2004 – 2006
Projekt: Resists zur OLED-Photostrukturierung“
Kooperationspartner: Fraunhofer Institut für Angewandte Polymerforschung, Golm, Allresist GmbH
Ziel: Strukturierung von OLED´s

2002 – 2004
Projekt: „Charakterisierung und Herstellung von orientierbaren Funktionsschichten“
Kooperationspartner: Institut für Dünnschichttechnologie und Mikrosensorik e.V., Teltow, Allresist GmbH
Ziel: Orientierungsschichten für Displays

2001 – 2004
Projekt: „Negativresist für MST“
Kooperationspartner: Bessy GmbH und CiS, Erfurt, Allresist GmbH
Ziel: Resists für Mikrosystemtechnik

2001 – 2002
Projekt: „Photoresists für Spezialanwendungen der Mikrostrukturierung“
Kooperationspartner: CiS, Institut für intelligente Sensorik, Erfurt, Allresist GmbH
Ziel: Dicke Photoresistschichten für die Mikrosystemtechnik

2000 – 2002
Projekt: „Thermostabile Resists“
Kooperationspartner: Institut für Dünnschichttechnologie und Mikrosensorik e.v., Teltow, Allresist GmbH
Ziel: Thermisch stabile Schutzschichten für die Mikroelektronik

1999 – 2000
Projekt: „Siebdruckfähiger, photovernetzbarer Passivierungslack“
Kooperationspartner: Fraunhofer Institut für Zuverlässigkeit und Mikrointegration, Teltow, Allresist GmbH
Ziel: Photovernetzbare Passivierungslacke für hochpräzise Widerstände

1998 – 1999
Projekt: „Analoger Elektronenstrahlresist“
Kooperationspartner: University of Joennsuu, Finnland, Allresist GmbH
Ziel: Fertigung von dreidimensionalen Resiststrukturen für diffraktive Optiken

1997 – 1999
Projekt: „Aktivierbare Photoresists für den additiven Leiterbahnaufbau“
Kooperationspartner: TU Dresden, Institut für Mikrosystemtechnik, Allresist GmbH
Ziel: Fertigung flexibler Leiterbahnen durch Metallisierung von Resiststrukturen

1995 – 1998
Projekt: „Resists für Eximer-Laser“
Kooperationspartner: CiS Erfurt, Allresist GmbH
Ziel: Resists für Eximer-Laser

1995 – 1996
Projekt: „Resistmaterialien für die Nanolithographie“
Kooperationspartner: Institut für Dünnschichttechnologie und Mikrosensorik e.V., Teltow, Allresist GmbH
Ziel: Defektarme Schichten von Resistmaterialien für Nanostrukturen

1995 – 1996
Projekt: „Maskenresist“
Kooperationspartner: robotron Meiningen GmbH, Maskenzentrum Dresden GmbH, Allresist GmbH
Ziel: Neuer Resist für die Maskenfertigung

1994 – 1996
Projekt: „Multiprozessing Resist“
Kooperationspartner: Institut für Halbleiterphysik Frankfurt/Oder, Allresist GmbH
Ziel: Resist für die mix-&-match-Technologie

1993 – 1994
Übernahme des Projekts: „Elster“ von den Fotochemischen Werken
Kooperationspartner: Institut für Halbleiterphysik Frankfurt/Oder, Allresist GmbH
Ziel: Trocken entwickelbarer Elektronenstrahlresist