Innovative Neuentwicklungen auf der MNE 2017

Allresist nahm am Kongress als Silbersponsor mit eigenem großen Stand teil und konnte viele beachtliche Neuigkeiten präsentieren. Ein besonderes Highlight war unser Wissenschafts-Poster zu unserer Neuentwicklung AR-N 4600 alias Atlas 46 und der Vortrag von Dr. Gerngroß über diesen interessanten Negativ Photoresist. Von ihm gibt es gleich drei sofort verfügbare Varianten:

  • 46S: adäquat zum SU-8
  • 46R: wieder leicht entfernbar
  • 4600-10 empfindlich bei g-line

Atlas-Wiss-Poster-2017

Abbildung 1: Wissenschaftliches Poster der Neuentwicklung Atlas 46

Ein besonderer Blickfang waren die fluoreszierenden Strukturen unserer neuen Farblacke für die optische und Sensor-Industrie. Einerseits wurden spezielle Negativ-Photoresists mit unterschiedlichen Farbstoffen eingefärbt. Andererseits wurden PMMA- und CSAR 62 E-Beamresists mit fluoreszierenden Komponenten versehen, die bei einer UV-Anregung hell leuchten.

Farbenresist-Poster-2017

Abbildung 2: Poster der neuen Farblacke

Weitere Aufmerksamkeit erregende Neuigkeiten, die auf Partner-Postern präsentiert wurden, sind:

Poster-Uni-Wuppertal

Abbildung 3: Poster der Uni Wuppertal – Atlas 46 als Nanoimprint-Lack

Microsoft PowerPoint - mne2017_final.pptx

Abbildung 4: Poster vom Karlsruher Institute of Technology – Dicker CSAR 62

Folie 1

Abbildung 5: Poster von der Martin-Luther-Universität Halle – Selektives Dreilagensystem zur Herstellung von T-Gates

Wir bedanken uns für Ihr großes Interesse, Ihre Anregungen und Ideen für weitere Projekte. Ganz besonders freuen wir uns über anerkennende Bemerkungen, wie die von Herrn Rommel der Technischen Uni Chalmers in Göteborg, der uns mit „Toll, Sie haben ja schon wieder neue Lacke im Programm“, begrüßte.

Nächstes Jahr freuen wir uns auf Ihren Besuch in Kopenhagen, dann ist die MNE 2018 dort zu Gast.

MNE-Stand-Allresist MNE-Stand2-Allresist

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