Das Interesse an alkaliresistenten Schutzschichten ist bei vielen Anwendern groß. In unterschiedlich basische Medien sollen die schon erzeugten Strukturen geschützt werden. Dazu bedarf es Resists, die den alkalischen Lösungen widerstehen und über eine exzellente Haftung auf dem jeweiligen Substrat verfügen. Für stark basische Ätzmedien (konzentrierte KOH für das Siliziumätzen) hat sich der Protective Coating X AR-PC 5000/4 im Zusammenspiel mit dem Haftvermittler AR 300-80 bewährt. Auf einigen Oberflächen hält die Schutzwirkung gegenüber 40 % KOH bei 85 °C über 6 Stunden an.
Hat man nicht so aggressive Laugen (bis zu 2 n KOH) und möchte den Resist noch strukturieren können, kann auf den X AR-P 5900/3 zurückgreifen. Der Resist wird von der starken Lauge im unbelichteten Zustand nicht angegriffen. Nach einer Belichtung lassen sich aber Strukturen entwickeln. Bei einer weiteren Behandlung der entwickelten Strukturen mit Laugen kann es aber zu Haftfestigkeitsproblemen kommen.
