Abstract CSAR 62 auf der HARMNST 2013 angenommen

Allresist-Neuentwicklung CSAR 62 = künftige ZEP Alternative:

Mit der Entwicklung unseres neuen Positiv-E-Beamresists CSAR 62 werden wir die Wünsche von vielen Anwendern nach einem empfindlichen, plasmaätzstabilen Elektronenstrahlresist mit höchster Auflösung befriedigen können. Bisher erfüllt der bekannte ZEP-Resist (ZEP 520A) mit ähnlichen Eigenschaften diese Forderungen. Da jedoch die kommerzielle Verfügbarkeit schwierig ist und die Preise in den letzten Jahren um ein Vielfaches stiegen, trugen Kunden den Wunsch einer Alternative an uns heran. Dies nahmen wir als Ansporn und möchten Ihnen künftig unseren CSAR 62 – ein technisch noch verbesserter Lack zu deutlich günstigeren Konditionen anbieten. Auf der HARMNST 2013 im April in Berlin werden wir die Ergebnisse im Detail vorstellen. Für einen ersten Überblick über den heutigen Arbeitsstand fügen wir das eingereichte Abstrakt an. Die bisherigen guten Ergebnisse lassen eine schnelle Einführung der CSAR-Resists in den Markt erwarten. Weitere Informationen finden Sie auch in unseren AR NEWS (26. Ausgabe) Wir möchten uns besonders bei Herrn Dr. Bastian Büttner von der MLU Halle für die mannigfaltigen elektronenlithografischen Untersuchungen und bei Herrn Dr. Thomas Köpnick vom IDM Teltow für die erfolgreichen Synthesen bedanken.

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