Das Jahr 2013 ist vorbei, vor uns liegen die Herausforderungen des neuen Jahres 2014. Wir möchten Sie über einige Neuerungen, die wir für Sie eingeführt haben, informieren:
1.Wie in den letzten AR NEWS beschrieben, haben wir neue knackige Produktbeschreibungen für unsere Photoresists und E-Beamresists fertiggestellt, die sie noch besser informieren und bei der Resistverarbeitung unterstützen. Doch sehen Sie selbst und laden sich gleich die Datei herunter: Photoresists (8,5 MB) / E-Beamresists (6,5 MB).
2. Wir haben neue Produkte unserem Standard-Produktportfolio hinzugefügt: Positive E-Beamresists höchster Auflösung: AR-P 6200 .13, 6200.09, 6200.04 (SX AR-P 6200/2 = CSAR 62) mit einem weiteren Entwickler, dem safer solvent Entwickler AR 600-549 Positiv-Photoresist für komplizierte Strukturierungen bis 5% HF / BOE: AR-P 5910 (SX AR-P 3100/10) Negative E-Beamresists höherer Empfindlichkeit und Auflösung: AR-N 7520.17, 7520 .11, 7520.07 (SX AR-N 7520/4. – 4.3). Sie ersetzen 2014 die bisherige E-Beamresistserie AR-P 7520. Für eine geordnete Umstellung im Sinne unserer Kunden hält Allresist die bisherigen 7520er noch für ein Jahr verfügbar. 8 neue PMMA-Feststoffgehalte : 600K, 950K und Copolymer 33% MA.
3. Allresist modernisiert ihre Website bis Anfang Februar 2014. Sie können dann viele technische Verbesserungen und die neuen detaillierten Produktinformationen nutzen.
4. Auf die Wünsche vieler Kunden eingehend, haben wir für alle Resists die Zwischengröße 500 ml = 2 x 250 ml (schließt die Lücke zwischen 250 ml und 1 l) sowie das Kleinstgebinde/Testmuster 100 ml eingerichtet. Neu ist auch unser 1-l-Angebot an Prozesschemikalien zu moderaten Preisen. Sie finden die Preise für alle Gebindegrößen in unseren neuen Preislisten 2014, die Sie ab sofort wieder bei Frau Danne anfordern können.
5. Der Rohstoff N-Ethyl-2-pyrrolidon (NEP), der Hauptbestandteil unserer Remover AR 300-72 und 300-70 ist, wurde von der Europäischen Kommission als reproduktionstoxisch eingestuft. Nach einer Übergangsfrist bis zum 1.1.2015 müssen die daraus resultierenden Produkte ebenfalls als reprotoxisch gekennzeichnet werden. Wir möchten Sie jedoch bereits frühzeitig von der neuen Einstufung informieren, da der Einsatz dieser Produkte für die Kinder werdender Mütter ein Risiko (kann das Kind im Mutterleib schädigen) darstellen kann:
Allresist hat für die NEP-haltigen Remover erfreulicherweise eine wirksame Alternative zur Entschichtung getemperter Photoresist- und E-Beamresistschichten finden können:
Das ist der neue Remover AR 300-76 (Basis Dimethylglutarat, Flammpunkt 103 °C). Außerdem können Sie auch den 2012 eingeführten, bereits bei Raumtemperatur effizient lösenden Remover AR 600-71 (Basis Dioxolan, Flammp. – 4 °C) einsetzen.
Wir empfehlen Ihnen bereits 2014 die beiden neuen Remover und bieten Sie Ihnen zum gleichen Preis an, um Ihnen den Übergang zu erleichtern. Sie finden beide Remover in unserer neuen Produktinformation detailliert beschrieben. Gern können Sie diese bei uns auch zum Testen bestellen (ab ¼ l).
Allresist beabsichtigt nach der Umstellung auf die beiden neuen, ebenso wirksamen Remover AR 300-76 und AR 600-71 den beginnenden „Ausstieg“ der NEP-haltigen Remover zum Schutz ihrer Kunden und Mitarbeiter. 2015 nehmen wir den AR 300-70 aus dem Programm. Kunden, die NEP-haltige Entwickler weiter verwenden wollen, können dann auf den ähnlich wirkenden AR 300-72 umsteigen.