Produkte Photoresists

Die Allresist-Produktpalette der Photoresists ist sehr umfangreich. Um Ihnen einen kleinen Überblick zu verschaffen sehen Sie weiter unten eine Auswahl. Bei weiterem Interesse wenden Sie sich einfach direkt an uns.

ResistEigenschaften
AR-BR 5400Zwei-Lagen-lift-off-System, positiv
AR-N 4200Negativresist, stabile sub-µm-Strukturen
AR-N 4300Negativresist, g-line, hochempfindlich
AR-N 4400 (CAR 44)LIGA-Resist bis 100 µm, i-line, negativdto.,
zusätzlich für lift-off (CAR 44)
AR-P 1200, AR-N 2200Sprühresist für komplizierte Topologien, positiv
AR-P 3100Maskenherstellung/Feinteilung, positiv
AR-P 3200Dicklack bis 100 µm, positiv
AR-P 3500 (T)ICs, große Prozessbreite < 2 µm, positiv
AR-P 3700, 3800VLSICs, hohe Auflösung, sub-µm, positiv
AR-P 5300Lift-off-Resist, positiv
AR-P 5900Positivresist, alkalistabil bis pH 14
AR-PC 503, 504(0)Protective Coating, KOH-resistent
AR-U 4000Image Reversal Resist (positiv / negativ)