Entwickler AR 300-26, -35

Entwickler AR 300-26 und AR 300-35.
Die Entwickler AR 300-26 und AR 300-35 sind farblose, wässrig-alkalische Lösungen, die für den mikrolithographischen Prozess zur Verarbeitung der Resistserien AR-P 1000 bis AR-P 5300 vorgesehen sind. Alle Entwickler sind für die Tauch- und Puddleentwicklung einsetzbar, darüber hinaus eignet sich der Entwickler AR 300-26 auch für die Sprühentwicklung. Der Entwickler AR 300-26 wird als gepuffertes System hoher Aktivität bevorzugt zur Entwicklung hoher Resistschichtdicken (> 5 μm) verwendet, wenn hoher Kontrast, steile Kanten und kurze Entwicklungszeiten gewünscht werden. Als Entwicklerkonzentrat ist er entsprechend den Erfordernissen an die Strukturgeometrie und deren Toleranzen mit deionisiertem Wasser zu verdünnen ( Tabelle auf der Rückseite). Unverdünnt wird er u.a. für die Experimentalmuster X AR-P 5100 und 5900 benötigt. Der Entwickler AR 300-35 ist ein Puffersystem mit großer Prozessbreite und unverdünnt v.a. für die Entwicklung von Resistschichten zwischen 3 – 6 μm vorgesehen. Ansonsten ist er als Entwicklerkonzentrat ebenfalls entsprechend den Erfordernissen an die Strukturgeometrie und deren Toleranzen mit deionisiertem Wasser zu verdünnen ( Tabelle auf der Rückseite). Neben der titrimetrischen Einstellung wird mit der sensitometrischen Kontrolle eine gleichbleibende Entwicklerqualität gewährleistet.

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