Resist des Monats Januar: SU 8-Alternative – Negativ-Photoresist Atlas 46

Die hervorragenden Eigenschaften des SU-8 sind allen Anwendern der Mikrosystemtechnik bekannt. Der neue Negativresist Atlas 46 S (Solid) von Allresist ist einfach verarbeitbar mit hoher Reproduzierbarkeit der Eigenschaften und großer Widerstandsfähigkeit der Resiststrukturen gegenüber allen gängigen Lösemitteln. Damit ist Atlas 46 S für alle Anwendungen geeignet, bei denen die Schicht permanent und widerstandsfähig auf dem Substrat verbleiben soll.

Atlas 46 R (Removing) hat spezielle Zusätze, die den Vernetzungsgrad verringern. Damit sind die Strukturen mit kommerziellen Removern wieder entfernbar. Dies erweitert die Anwendungsmöglichkeiten in der Photolithographie. Außerdem kann der Lack für galvanische Anwendungen genutzt werden, da er auch nach der Metallisierung einfach entfernbar ist.

Mit einer 3. Version des Atlas 46, die sich bei einer Wellenlänge von > g-line (436 nm) belichten lässt, ist der selektive Aufbau von Multilayern möglich. In der Kombination zwei verschiedener Varianten können dreidimensionale Strukturen generiert werden: Zuerst wird Atlas 46 S belichtet (λ1 < 365 nm) und mittels Temperung vernetzt. Dann wird der SX AR-N 4600-10/10 auf den ersten Lack beschichtet, (mit λ2 > 380 nm) belichtet und die Doppelschicht getempert. Bei der Entwicklung werden die nicht belichteten Flächen des Toplayers und die nicht belichteten Stellen des Bottomlayer unter der zweiten Schicht herausgewaschen.

3D-Mehrlagensystem-Atlas46.jpg

Prozessbild 3D-Mehrlagensystem Atlas 46

leicht-entfernbare-Strukturen-Atlas46

Atlas 46 R  5 µm line & space, Strukturen sind leicht entfernbar

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