SX AR-N 7730/1

Der Negativ-Elektronenstrahlresist SX AR-N 7730/ ist ein chemisch verstärkter Resists, der auch im Weißlicht eingesetzt werden kann. Er zeichnet sich durch exzellente Empfindlichkeit, hohe Auflösung und hohe Plasmaätzbeständigkeit aus. Er arbeitet im UV-Bereich von 248 – 265 nm negativ mit hoher Auflösung (80 nm bei 100 nm Schichtdicke).

Der AR-N 7700 verfügt über einen hohen Kontrast (> 5), die Entwicklung erfolgt wässrig-alkalisch.

Die Hauptkomponenten der Resists sind Novolak, Säuregenerator, Vernetzer und das safer-solvent-Lösemittel 1-Methoxy-2-propyl-acetat.

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