SX AR-P 3500/8

Der SX AR-P 3500/8 ist ein positiv arbeitender Photoresist auf Polyhydroxystyren-Basis und mit einer speziellen lichtempfindlichen Komponente. Aufgrund der guten thermischen Stabilität der Polymere können die erzeugten Strukturen ohne Zerstörung Temperaturen von 300 °C ausgesetzt werden. Lediglich tritt eine Schrumpfung von ca. 10 % auf. Der Resist kann mit dem üblichen lithographischen Equipment strukturiert werden.

Der Resist besteht aus einer Polyhydroxystryren – Naphthochinondiazid – Kombination in einem organischen Lösemittelgemisch mit dem Hauptbestandteil 1-Methoxy-2-propyl-acetat.

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