SX AR-P 3740/4

Photoresist für Sub-μm-Strukturen SX AR-P 3740/4.

Das Experimentalmuster SX AR-P 3740/4 ist ein positiv arbeitender Photoresist, der für die Herstellung höchstintegrierter Schaltkreise mit Strukturbreiten bis in den Submikrometerbereich eingesetzt wird. Der Resist zeichnet sich besonders durch hohe Empfindlichkeit, sehr hohen Kontrast, ausgezeichnetem Maßübertragungsverhalten sowie große Prozessbreite aus. Er ist besonders für die Tauchbeschichtung geeignet.
Der SX AR-P 3740/4 enthält das safer-solvent-Lösemittel (1-Methoxy-2-propyl)-acetat.

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