SX AR-P 5000/82.7

Das Experimentalmuster SX AR-P 5000/82.7 ist ein positiv arbeitender, bis 450 °C thermisch stabiler Photoresist. Die erzeugten Strukturen zeichnen sich durch eine exzellente Stabilität bei Plasmaätz- und Implantationsprozessen aus.
Bei Schichtdicken um 1 μm ist eine Auflösung von 1 μm erreichbar (i-line-Belichtung).
Der Resist enthält als Hauptbestandteil das safer-solvent-Lösemittel (1-Methoxy-2-propyl)-acetat.
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