SX AR-PC 5000/80.2

Polyimidresist als Schutzlack für die 2-Lagen-Strukturierung SX AR-PC 5000/80.2
Das Experimentalmuster SX AR-PC 5000/80.2 ist ein bis 450 °C thermisch stabiler Resist, der als Sensormaterial, als Schutzlack oder als Isolationsschicht eingesetzt werden kann.
Das neue Polyimid ist in dem Resistlösemittel löslich und muss nicht erst durch einen nachfolgenden Temperschritt hergestellt werden.
Darüber hinaus ist die Schutzschicht problemlos in einem Zweilagensystem mit dem Photoresist AR-P 3540T strukturierbar.
Der Resist enthält als Hauptbestandteil das safer-solvent-Lösemittel (1-Methoxy-2-propyl)-acetat..

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SX AR-PC 5000/80.2

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