Neuigkeiten
Seite 1 von 13
mehr...
Allresist auf der Semicon in Dresden
11.10.2011
Allresist stellt auf der SEMICON Europa vom11. - 13. Oktober in Dresden aus. Dazu laden wir Sie herzlich zu einem Besuch auf den Gemeinschaftsstand der Silicon Saxony, Stand Nr. 2050 in Halle 2 ein. ...
mehr lesen »
Allresist stellt auf der SEMICON Europa vom11. - 13. Oktober in Dresden aus. Dazu laden wir Sie herzlich zu einem Besuch auf den Gemeinschaftsstand der Silicon Saxony, Stand Nr. 2050 in Halle 2 ein. ...
mehr lesen »
mehr...
Qualitätspreis Berlin-Brandenburg 2012 ausgelobt
11.04.2011
Auf dem 6. Qualitätstag B-BB fällt der Startschuss für die Teilnahme am Qualitätspreis 2012. Die Qualitätsbotschafterin Brigitte Schirmer und Preisträger 2010 gab ihre Erfahrungen weiter und m ...
mehr lesen »
Auf dem 6. Qualitätstag B-BB fällt der Startschuss für die Teilnahme am Qualitätspreis 2012. Die Qualitätsbotschafterin Brigitte Schirmer und Preisträger 2010 gab ihre Erfahrungen weiter und m ...
mehr lesen »
mehr...
Benchmarking-Workshop bei Allresist
10.03.2011
Benchmarking, das Sich-Vergleichen mit den Besten, ist ein wichtiger Schritt auf dem Weg zu Exzellence. Hierzu fand auf Initiative der Allresist in Kooperation mit dem Verein für Qualitätsförderun ...
mehr lesen »
Benchmarking, das Sich-Vergleichen mit den Besten, ist ein wichtiger Schritt auf dem Weg zu Exzellence. Hierzu fand auf Initiative der Allresist in Kooperation mit dem Verein für Qualitätsförderun ...
mehr lesen »
mehr...
Allresist hat zertifiziertes Umweltmanagement nach DIN EN ISO 14001
11.02.2011
Allresist hat sich als chemisches Unternehmen schon immer dem Umweltgedanken stark verpflichtet gefühlt und bereits mehrere gefahrenauslösende Stoff abgelöst. Um jedoch unserer Verantwortung gegen ...
mehr lesen »
Allresist hat sich als chemisches Unternehmen schon immer dem Umweltgedanken stark verpflichtet gefühlt und bereits mehrere gefahrenauslösende Stoff abgelöst. Um jedoch unserer Verantwortung gegen ...
mehr lesen »
mehr...
Allresist stellt auf der SEMICON Korea 2011 aus
28.01.2011
Gemeinsam mit unserem koreanischen Partner EXA TECH INC. hat Allresist die neusten Entwicklungen in Seoul auf der SEMICO Korea vorgestellt. In enger Kooperation mit dem Silicon Saxony wurde mit den ü ...
mehr lesen »
Gemeinsam mit unserem koreanischen Partner EXA TECH INC. hat Allresist die neusten Entwicklungen in Seoul auf der SEMICO Korea vorgestellt. In enger Kooperation mit dem Silicon Saxony wurde mit den ü ...
mehr lesen »
Allresist ist Deutschlands Kundenchampions 2010 und hat den Qualitätspreis Berlin-Brandenburg 2010 gewonnen!
Eine Zusammenfassung der wichtigsten Meldungen aus
Forschung und Wissenschaft können
Sie mit unseren AR NEWS hier als PDF-Datei abrufen.
mehr ...
Neueste Resistentwicklungen:
Neue, anwendungsbereite Resists für Spühbeschichtungen -
AR-P 1250 und AR-N 2250
31.03.2010
Die Positiv-Sprühlacke AR-P 1250 und die Negativ-Sprühlacke AR-N 2250 wurde auf einer Süss Gamma Altaspray qualifiziert (Herr Lutz Nüske, Fraunhofer IPMS, Dresden). Damit konnten die typischen Ätzgruben in Silizium an allen Punkten sicher bedeckt werden. Die Oberfläche ist glatt, nur noch leicht wellig. Die Schichtdicke kann reflektorisch (z.B. Nanospec8000) ohne Nachbehandlung gemessen werden. Die Bildung von Kügelchen ist nur noch gering ausgeprägt. Die maximale Auflösung bei 5 µm Schichtdicke beträgt 1,5 µm. Proben für Tests stehen für alle Interessenten bereit.
AR-P 1250 und AR-N 2250
31.03.2010
Die Positiv-Sprühlacke AR-P 1250 und die Negativ-Sprühlacke AR-N 2250 wurde auf einer Süss Gamma Altaspray qualifiziert (Herr Lutz Nüske, Fraunhofer IPMS, Dresden). Damit konnten die typischen Ätzgruben in Silizium an allen Punkten sicher bedeckt werden. Die Oberfläche ist glatt, nur noch leicht wellig. Die Schichtdicke kann reflektorisch (z.B. Nanospec8000) ohne Nachbehandlung gemessen werden. Die Bildung von Kügelchen ist nur noch gering ausgeprägt. Die maximale Auflösung bei 5 µm Schichtdicke beträgt 1,5 µm. Proben für Tests stehen für alle Interessenten bereit.
Oberflächengeglätteter Resist SX AR-PC 5000/22.2
05.07.2007
Der Schutzlack wurde für Nikon Kanagawa, Japan, in Zusammenarbeit mit dem Institut für Oberflächenmodifizierungen, Leipzig, entwickelt. Mit diesem Resist können mittels Sprühbeschichtung sehr dünne, extrem glatte Schichten erzeugt werden. Weitere Informationen geben wir gern auf Anfrage.
05.07.2007
Der Schutzlack wurde für Nikon Kanagawa, Japan, in Zusammenarbeit mit dem Institut für Oberflächenmodifizierungen, Leipzig, entwickelt. Mit diesem Resist können mittels Sprühbeschichtung sehr dünne, extrem glatte Schichten erzeugt werden. Weitere Informationen geben wir gern auf Anfrage.
Mit Schutzlack geglättete Linse
mehr ...
Dicklack SX AR-P 3220/16
02.05.2007
Der neue Dicklack mit verbesserter Rezeptur ersetzt ab sofort den AR-P 3220.
Durch die Auswahl optimierter Rohstoffe wurde eine deutlich bessere Transparenz der Resistschicht bei der Belichtungswellenlänge erzielt. Daraus resultieren eine höhere Empfindlichkeit und eine bessere Strukturwiedergabe. Da der Resist im Vergleich mit dem alten AR-P 3220 für einen stärkeren Entwickler konzipiert wurde, steht dem Anwender ein größerer Spielraum zur Einstellung der Kantensteilheit zur Verfügung.
Weitere Informationen stehen im Download Datenblätter als PDF zur Vefügung.
02.05.2007
Der neue Dicklack mit verbesserter Rezeptur ersetzt ab sofort den AR-P 3220.
Durch die Auswahl optimierter Rohstoffe wurde eine deutlich bessere Transparenz der Resistschicht bei der Belichtungswellenlänge erzielt. Daraus resultieren eine höhere Empfindlichkeit und eine bessere Strukturwiedergabe. Da der Resist im Vergleich mit dem alten AR-P 3220 für einen stärkeren Entwickler konzipiert wurde, steht dem Anwender ein größerer Spielraum zur Einstellung der Kantensteilheit zur Verfügung.
Weitere Informationen stehen im Download Datenblätter als PDF zur Vefügung.
mehr ...