Photoresists
AR-PC 503, 504(0)
Protective Coating AR-PC 503, 504.
Die Protective Coatings AR-PC 503 und 504 sind haftverstärkte KOH-resistente Schutzlacke. Ihre Funktion besteht in der Erzeugung von stabilen Schutzschichten. Die aufgebrachte Schicht schützt die Waferrückseite zuverlässig bei Ätzungen der Vorderseite (z.B. mit 40 % iger KOH) zur Erzeugung abgesenkter Strukturen in Silizium. Die erzeugten Schichten sind oberhalb 300 nm nicht lichtempfindlich und bis 190 °C thermisch stabil. Zusätzlich bewirkt die Schicht einen zuverlässigen Schutz vor mechanischen Beschädigungen beim Transport und beim Handling. Dabei besitzt der AR-PC 503 die geringere Schichtdicke und ist zur Sichtbarmachung im Gelblicht schwarz eingefärbt.
Die Resists bestehen aus Polymethylmethacrylat und Haftvermittler (der AR-PC 503 zusätzlich ein Farbstoff) in einem organischen Lösemittelgemisch mit dem Hauptbestandteil Chlorbenzen.
Die Protective Coatings AR-PC 503 und 504 sind haftverstärkte KOH-resistente Schutzlacke. Ihre Funktion besteht in der Erzeugung von stabilen Schutzschichten. Die aufgebrachte Schicht schützt die Waferrückseite zuverlässig bei Ätzungen der Vorderseite (z.B. mit 40 % iger KOH) zur Erzeugung abgesenkter Strukturen in Silizium. Die erzeugten Schichten sind oberhalb 300 nm nicht lichtempfindlich und bis 190 °C thermisch stabil. Zusätzlich bewirkt die Schicht einen zuverlässigen Schutz vor mechanischen Beschädigungen beim Transport und beim Handling. Dabei besitzt der AR-PC 503 die geringere Schichtdicke und ist zur Sichtbarmachung im Gelblicht schwarz eingefärbt.
Die Resists bestehen aus Polymethylmethacrylat und Haftvermittler (der AR-PC 503 zusätzlich ein Farbstoff) in einem organischen Lösemittelgemisch mit dem Hauptbestandteil Chlorbenzen.
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