Einige Kunden verwenden alkaliempfindliche Aluminiumsubstrate. Das führt zu Problemen wenn die Metalloberfläche im Prozess nicht angeätzt werden darf. Während unser MIF-Entwickler (AR 300-40er) und Entwickler AR 300-26 Aluminiumoberflächen stark angreifen, bleibt die Metalloberfläche bei Einsatz des Entwicklers AR 300-35 weitestgehend unverändert. An der Metalloberfläche bildet sich vermutlich eine Passivierungsschicht aus, die das Metall vor weiterem Angriff zuverlässig schützt. So übersteht Aluminiumfolie den Kontakt mit AR 300-35 über Stunden fast unverändert, während sich die Folie in AR 300-47 schnell auflöst.
Weiterhin zeigte sich, dass konzentriertere Varianten von AR 300-35 auch erfolgreich als Remover eingesetzt werden können. Zahlreiche Resists sind nach Einsatz in Hochtemperaturprozessen, z.B. Sputtern, Ionenätzen oder auch Ionenimplantation, in organischen Removern nur noch schwer oder gar nicht mehr zu entfernen. Die Verwendung wirksamer alkalischer Remover war aber bisher nur sehr eingeschränkt möglich wenn alkaliempfindliche Substrat, wie z.B. Aluminium, eingesetzt wurden. Stärkere Varianten von AR 300-35 zeigten nun ähnlich gute Reinigungsergebnisse wie unser TMAH basierter, alkalischer Remover AR 300-73 ohne Aluminiumoberflächen signifikant anzugreifen.