Die mit Abstand meist gebrauchten Resists sind die Positiv-Photoresists, gefolgt von den Negativ-Photoresists. Es gibt jedoch auch andere Speziallacke.
Die Bildumkehrlacke (Image Reversal Resists) sind Positivresists mit einem zusätzlichen Amin. Je nach Verarbeitungsprozess können positive oder negative Abbildungen erzeugt werden. Darüber hinaus gibt es noch Speziallacke wie die Positiv-Polyimidresists und Negativ-Polyimidresists (Hochtemperatur-Anwendungen > 400 °C, Polymer Polyimid), Negativ-Polyhydroxystyrenresists (Hochtemperatur-Anwendungen bis etwa 300°C), Negativ-PMMA-Photoresists (wasserfreie Entwicklung für empfindliche Substrate, Polymer PMMA und Vernetzer), Positiv- und Negativ-Zweilagen-Photoresists (Lift-off-Technologie, Polymer Copolymer PMMA).
Photoresist Andere Resists