Allresist ist aktuell auf der MNE 2026 – Micro and Nano Engineering Conference in Interlaken vertreten. An unserem Stand 20 freuen wir uns über den regen fachlichen Austausch mit Kunden, Partnern, Wissenschaftlern und Interessenten aus der internationalen Mikro- und Nanotechnologie-Community.
Ein besonderes Highlight unseres Messeauftritts war der Fachvortrag unseres Kollegen Harry Biller zum Thema „New product developments 2026“. Dabei stellte er aktuelle Entwicklungen aus unserem Produktportfolio für die moderne Lithographie vor.
Ein Schwerpunkt lag auf unserem neuen HSQ-Resist Medusa 84 SiH. Der von Allresist selbst synthetisierte HSQ-Polymer wird in Butylacetat gelöst. Damit soll unter anderem die Lagerstabilität verbessert und die Bildung von Gelpartikeln reduziert werden; gleichzeitig kann auf das in der Präsentation thematisierte Lösungsmittel MIBK verzichtet werden.
Ein weiteres Thema war die Entwicklung von Choline-OH-basierten Entwicklern als Alternative zu TMAH. Vorgestellt wurden unter anderem der neue AR 300-41 für Medusa 84 SiH sowie der AR 300-42 für Photoresists. Die präsentierten Versuchsergebnisse zeigen interessante Ansätze für leistungsfähige Entwicklungsprozesse bei gleichzeitig verändertem Gefahrstoffprofil.
Darüber hinaus präsentierte Harry Biller einen neuen siliziumhaltigen PPA-Polymeransatz für die direkte Hardmask-Herstellung mittels NanoFrazor-Technologie. Der Ansatz soll durch eine Verringerung der erforderlichen Beschichtungs- und Ätzschritte zu vereinfachten Prozessabläufen beitragen.
Für uns ist die MNE vor allem eines: eine wertvolle Gelegenheit, neue Entwicklungen nicht nur vorzustellen, sondern direkt mit Anwendern über Anforderungen, Erfahrungen und zukünftige Anwendungen zu sprechen.
Sie sind ebenfalls auf der MNE 2026 in Interlaken?
Besuchen Sie uns gerne an Stand 20. Wir freuen uns auf den persönlichen und fachlichen Austausch!
