Allresist war auf dem Kongress wie in den Jahren zuvor mit einem repräsentativen Stand vertreten. Diese MNE stand unter dem Motto „Going Nano in Homer´s Land“. Das war für unseren Vortrag ein hervorragender Anknüpfungspunkt, weil unser neuer E-Beamresist den Namen Medusa 82 trägt. Blickte Medusa aus der griechischen Mythologie einen Menschen an, wurde er zu Stein. Wird die Medusa Schicht bestrahlt, wird sie auch zu Stein (SiO2).
Der Geschäftsführer Matthias Schirmer stellte in seiner Präsentation die Vorzüge Medusas im Vergleich mit dem einzigen Konkurrenzprodukt HSQ vor. Unser Resist zeichnet sich durch lange Haltbarkeiten ohne Qualitätsverlust und weite Prozessfenster aus. Mittels Grauton-Lithographie kann Medusa 82 die Herstellung von diffraktiven optischen Elementen (DOE) stark vereinfachen. Und auch für die EUV-Lithographie ist der Resist geeignet. Gern stellen wir Ihnen die gesamten Ergebnisse und Informationen zusammen.
Die Ergebnisse über Medusa wurden mit großem Interesse zur Kenntnis genommen. Aber auch die anderen Resist-Entwicklungen wie CSAR 62, Electra 92 und Phoenix 81 waren für viele Anwender interessant. Die meisten Kongressteilnehmer hatten schon mit mindestens einem unserer Resist gearbeitet und teilten uns ihre Ergebnisse mit. Die MNE 2019 war für uns ein voller Erfolg.
Wir laden unsere Kunden und Geschäftspartner schon für die MNE 2020 in Leuven, Belgien, vom 14. – 18. September ein. Dort wird das bekannte interuniversitäre Forschungszentrum Imec der Gastgeber sein.
Abb. 1 Medusen-Darstellung von Carlos Schwabe, 1895
Abb. 2 Matthias Schirmer und Dr. Maik Gerngroß (von rechts nach links) am Allresist Stand auf der MNE 2019
Poster Medusa 82 Grauton
Poster Medusa 82 der MLU Halle