Unsere Kundenberater vertreten die Allresist GmbH aktuell auf dem renommierten EIPBN-Kongress in Denver, USA.
Gemeinsam mit unserem langjährigen Partner, dem Fraunhofer Institute for Electronic Nano Systems (ENAS), präsentieren wir dort eine neue und zukunftsweisende Produktentwicklung.
Im Mittelpunkt steht unser neuer Choline-Entwickler, eine gesundheits- und umweltfreundlichere Alternative zu herkömmlichen TMAH-Entwicklern. Während TMAH aufgrund seiner hohen akuten Toxizität erhebliche Gesundheits- und Umweltgefahren birgt, bietet Choline Hydroxide eine deutlich sicherere und biologisch besser abbaubare Lösung. Die Untersuchungen zeigen, dass der neue Entwickler dennoch eine vergleichbare beziehungsweise in einigen Anwendungen sogar bessere Performance erreicht. Die Entwicklung von positiven und negativen Photoresists sowie HSQ-basierten E-Beam-Resists untersucht. Es konnte gezeigt werden, dass unser Choline-Hydroxide-basierte Entwickler bei positiven und negativen Photoresists sowie HSQ-basierten E-Beam-Resists ähnliche Entwicklungsraten wie klassische 2,38 % TMAH-Entwickler erzielen. Für HSQ-Resists, wie zum Beispiel unseren Medusa 84 SiH, wurden zudem sehr hohe Kontraste und feine Strukturen bis hin zu isolierten 25-nm-Linien erfolgreich realisiert.
Die neuen Entwickler werden künftig unter den Produktnamen AR 300-41 und AR 300-42 Teil des Allresist-Portfolios sein. Gemeinsam mit Fraunhofer ENAS wurde zum Kongress ein wissenschaftliches Abstract eingereicht und darauf aufbauend ein gemeinsames Poster erstellt.
Mit dieser Entwicklung verfolgt Allresist konsequent seine Vision, „Nr. 1 für innovative Resists weltweit“ zu werden – verbunden mit einem verantwortungsvollen Umgang gegenüber Mensch und Umwelt. Die neue Produktentwicklung steht beispielhaft für unsere Grundwerte: Innovationskraft, Qualität, Nachhaltigkeit und starke Partnerschaften.
Wir freuen uns über den intensiven fachlichen Austausch auf dem EIPBN-Kongress und darauf, gemeinsam mit unseren Partnern innovative und nachhaltige Lösungen für die Mikro- und Nanotechnologie weiter voranzubringen.