AR-P 8100 (Phoenix 81)

Bei den Polyphthalaldehyden (PPA) handelt es sich um thermisch strukturierbare Resists, die hauptsächlich für die tSPL-Anwendungen mit dem NanoFrazor (SwissLitho AG) entwickelt wurden. Das Kernstück dieses Geräts ist eine heiße Nadel, die die Resistoberfläche abrastert. Bei jedem Tipp verdampft das thermolabile PPA, dadurch werden die gewünschten Strukturen in die Schicht übertragen. Damit können sowohl 10-nm-Linien als auch anspruchsvolle dreidimensionale Strukturen geschrieben werden.

Mit dem NanoFrazor können die Strukturen auch ohne Vakuumtechnik geschrieben werden. Ebenso ist eine Aufstellung des Gerätes aufgrund der Technologie in einem sauberen Labor möglich. Für das Beschichten der Substrate mit dem Resist Phoenix 81 ist jedoch ein Reinraum notwendig. Die Schreibgeschwindigkeit des NanoFrazor entspricht in etwa der von einfachen Elektronenstrahlgeräten bei der Realisierung höchstaufgelöster Strukturen. Eine Strukturierung mittels E-Beamlithographie, Photolithographie und Laser-Bestrahlung ist ebenfalls möglich.

Die thermische Strukturierung mittels NanoFrazor kann auch mit anderen Resists durchgeführt werden. So sind auch der CSAR 62 (AR-P 6200) und das PMMA-Copolymer AR-P 610 für dieses Verfahren geeignet.

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