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Ihre Aufgaben: Bearbeitung interner und externer Forschungsaufgaben (kunden- und marktspezifische Produktentwicklung bis hin zur Marktreife, Präsentation und Vermarktung auf Messen, Kongressen und bei Projektträgern, Projektbetreuung und -durchführung auf Landesebene, national und europäisch) und
Kundenberatung.

Streifzüge durch die Lithographie der Mikroelektronik (Matthias Schirmer)

Seit der letzten Ausgabe von „Ullmanns Imaging for Electronics“ von 1989 nahm die Photolithographie einen derart rasanten Aufschwung, dass es angesichts des knappen Platzes hier kaum möglich ist, hier mehr als nur einen kurzen repräsentativen Überblick zu geben. Zu jedem Kapitel, zu jeder Technologie und zu jedem Verfahren gibt es jedoch noch eine Vielzahl von Fakten, die für den interessierten Leser anhand der Literaturstellen nachzuvollziehen sind.

Gemeinsam gegen Corona – preiswerte Lieferung von Desinfektionsmitteln

Allresist liefert ab jetzt unsere Kunden, Desinfektionsmittel für die hygienische Händedesinfektion Ihrer Mitarbeiter sowie zu Flächendesinfektion. Not macht erfinderisch. In Zeiten der Corona-Krise müssen alle kreativ mit anpacken und sich gegenseitig helfen. Aufgrund der Desinfektionsmittel-Knappheit kamen wir auf die Idee, diese selbst entsprechend der WHO-Rezeptur herzustellen, 1. um den enorm gestiegenen Bedarf von Krankenhäusern und Arztpraxen sowie Pflegeeinrichtungen, Ämtern und Schulen zu entsprechen und 2. um unseren Kunden diese für den Schutz ihrer Mitarbeiter anzubieten.

Oktober 2019: Medusa 82 UV

Schon im Januar 2019 haben wir Medusa 82 UV zum Resist des Monats gekürt. Damals wurden erste Ergebnisse der Anwendung als Photoresist gewürdigt. Nun möchten wir Ergebnisse über den Einsatz in der Grauton-Lithographie vorstellen, die auch auf der MNE 2019 in Griechenland gezeigt wurden.

40. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
27 Jahre Allresist – fest auf dem Weltmarkt etabliert
; Allresist erfolgreich auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2019) und MNE 2019
; Medusa 82 für die E-Beam Grauton-Lithographie
; Resiststrukturen für den Spin-Hall-Effekt

Medusa 82 auf der MNE auf Rhodos

Allresist war auf dem Kongress wie in den Jahren zuvor mit einem repräsentativen Stand vertreten. Diese MNE stand unter dem Motto „Going Nano in Homer´s Land“. Das war für unseren Vortrag ein hervorragender Anknüpfungspunkt, weil unser neuer E-Beamresist den Namen Medusa 82 trägt. Blickte Medusa aus der griechischen Mythologie einen Menschen an, wurde er zu Stein. Wird die Medusa Schicht bestrahlt, wird sie auch zu Stein (SiO2).