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Einträge von AllAdmin

12. Welche Anwendungsgebiete haben Schutzlacke (Protective Coating)?

Es gibt Schutzlacke für die verschiedensten Anwendungen, z.B. für den Rückseitenschutz von prozessierten Wafern: · für den mechanischen Schutz beim Transport · als Isolatorschicht bei KOH-

13. Wie arbeiten Umkehrlacke (Image Reversal Resists)?

Umkehrlacke, wie der AR-U 4000, liefern je nach Verarbeitungsregime ein positives oder negatives Bild der optisch übertragenden Vorlage. Verarbeitet man den Resist ganz normal wie einen Positivresist,

14. Wie entsteht ein Unterschnitt (Lift-off) bei Einlagen- und Zweilagensystemen?

Es gibt Einlagen- und Zweilagensysteme, mit denen ein Unterschnitt erzeugt werden kann. Ein Einlagenresist ist der AR-P 5350, mit ihm können z.B. Aufdampfmuster aus Metall erzeugt werden.

15. Wie werden Dicklacke > 10 µm optimal prozessiert?

Beschichtung: Generell gilt für die Beschichtung dicker Positiv- und Negativlacke: Die Resists sollten mehrere Stunden bis zu einen Tag vor der Verarbeitung ruhen (» Frage 6 optimale Beschichtung und Frage 7 Luftbläschen)

16.Welche Auflösung und welchen Kontrast haben Photoresists?

Die Auflösung von Resists ist von mehreren Parametern, wie z.B. vom Maskelinertyp, vor allem dessen NA (numerische Apertur), Schichtdicke, Belichtungs-wellenlänge, Entwicklerkonzentration und

17. Wie hoch ist die Plasmaätzresistenz von Photoresists?

Die Photoresists der AR-Serien 3000 bis 4000 besitzen aufgrund der verwendeten Polymere eine gute Ätzresistenz, vor allem in den Trockenätzprozessen wie z.B. Argon-Sputtern, CF4 und CF 4 /

18.Wie hoch ist die Ätzresistenz der Photolacke gegenüber starken Säuren?

Konzentrierte oxidierende Säuren (Schwefelsäure, Salpetersäure, Königswasser 1) , Piranha 2) ) greifen schon bei Raumtemperatur die Resistschichten an und sind als Remover für hartnäckige Resiststrukturen bekannt.

19.Welche Photolacke sind für Flusssäure (HF)-Ätzungen geeignet?

Der positiv arbeitende Photoresist X AR-P 3100/10 ist extrem haftverstärkt und damit für Flusssäure-Ätzungen bis 5 % HF geeignet. Besonders auf Glas oder Siliziumoxid wird eine Vorbehandlung der Substrate mit dem Haftvermittler AR 300-

20. Wie hoch ist die Lösemittelbeständigkeit von Photoresistschichten?

Bei den Photoresists gibt es rohstoffspezifisch zwei unterschiedliche Gruppen: · PMMA-Resists (Schutzlacke AR-PC 5000/4, 503, 504 und SX AR-N 4800) · Novolak-Resists (AR-P 3000, AR-

Qualität boxt sich durch

Unter diesem Motto hatte der VQB Verein für Qualitätsförderung Brandenburg e.V. zu einer Podiumdiskussion in das Wolke-Camp nach Frankfurt/O. eingeladen. Die Geschäftsführer der Allresist,