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Einträge von AllAdmin

Poster auf der HARMST 2007 in Besancon

In Fortführung der Arbeiten, die auf dem GMM-Workshop in Karlsruhe vorgestellt wurden, konnten die neusten Ergebnisse in einem Poster auf der HARMST 007 in Besancon präsentiert werden.

GMM-Workshop Technologien und Werkstoffe in der Mikro- und Nanosystemtechnik

Auf dem Workshop wurde ein Vortrag mit dem Titel “Herstellung von Röntgenmasken in einem Zweistufenprozess mit dem Photoresist CAR 44” von Allresist gehalten. Das Abstrakt wird im Folgenden vorgestellt:

4. Überwachungsaudit

Planmäßig fand am 23.02.2007 das 4. Überwachungsaudit im Rahmen unseres Qualitätsmanagementsystemes statt. Herr Dr. Leonhardt von der TÜV Management Service GmbH, TÜV Süd Gruppe,

Bewerbung um den Zukunftspreis und Einführung einer umfassenden ERP-Software

Allresist hat sich im September 2006 erneut um den Zukunftspreis Ostbrandenburgs beworben. Nachfolgend der Bewerbungstext: “Mit Allresist hat sich in Ostbrandenburg ein leistungsstarkes Unternehmen etabliert,

Allresist unterstützt Strausberg beim Kampf um die Kompetenzzentren

Bei einem Treffen mit Minister Junghans im Lakeside in Strausberg waren die innovativsten Unternehmen aufgefordert, die wirtschaftliche Stärke der Region zu demonstrieren. Eingeladen hatte der Bürgermeister der Stadt Strausberg,

Nominierung für das Finale des Innovationspreises Berlin/Brandenburg

Aus 175 Bewerbungen wurde die Allresist neben 6 anderen Unternehmen für den Innovationspreis Berlin-Brandenburg nominiert. Die Allresist GmbH wurde für ihr erfolgreiches Forschungsprojekt

Qualifizierungsmaßnahmen im Rahmen des QMS

Die Mitarbeiter der Allresist vervollkommnen ihr Wissen bei den Qualifizierungsmaßnahmen. Diese Seminarreihe bildete den Auftakt zum Verständnis des EFQM. Das Verstehen und Leben des anspruchsvollen Qualitätsmanagementsystems soll die Mitarbeiter befähigen,

Kooperation in China begonnen

Aufbauend auf den Kontakten der Semicon China 2003 und in Zusammenarbeit mit der SINOMAN Trading Shanghai wurden erste konkrete Kontakte in China geknüpft. Gespräche mit der Jiangying Jianghua Company zeigten die Möglichkeiten und den Willen zur Zusammenarbeit.

HARMST 2005 in Korea

In diesem Beitrag wird der neu entwickelte Negativresist CAR 44 für die Mikrosystemtechnik vorgestellt. Der CAR 44 verfügt über ähnliche Eigenschaften wie der SU-8, besitzt jedoch darüber hinaus bedeutende Vorteile.

Wiederentfernbarer Negativresist für dicke Schichten – CAR 44

In der LIGA- und Mikrosystemtechnik wird weltweit der Negativresist SU-8 eingesetzt. Neben seinen anerkannt exzellenten Eigenschaften besitzt er jedoch auch einige Nachteile. Der Größte ist die äußerst schwierige Entfernbarkeit der vernetzten Strukturen nach dem Prozess.