AllAdmin, Author at Allresist DE

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Einträge von AllAdmin

Medusa 82 – die Alternative zum HSQ-Resist, Lagerstabilität

Unserem Forschungsteam ist es gelungen, einen Negativresist hoher Auflösung und Plasmaätzstabilität in Sauerstoff zu entwickeln: der Medusa 82. Bereits mit den ersten Mustern gelang es die Eigenschaften des HSQ zu erreichen.

Black-Protect – stabiler Schutzlack für HF- und KOH-Ätzungen

Der neue Lack SX AR-PC 5000/41 (Black-Protect) ist bis 130 °C stabil und kann deshalb auch bei der KOH-Ätzung bei 85 °C eingesetzt werden. Die Schutzschicht widersteht bei einer ausreichenden Schichte > 5 µm sowohl konzentrierter Flusssäure als auch 40 % iger Kalilauge.

Ausbleichbare Resists

Die Grundidee bei den Farbstoffresists innerhalb des Projektes Photoenco (Juni 2016 – Mai 2019) war, dass man Farbstoffe in die Polymermatrix des Resists einmischt, welche dann durch Bestrahlung ihre Farbe ändern oder aber farblos werden.

Juli 2018: Medusa 82 – die Alternative zum HSQ-Resist

Unserem Forschungsteam ist es in diesem Jahr gelungen, einen Negativresist hoher Auflösung und Plasmaätzstabilität in Sauerstoff zu entwickeln. Bereits mit den ersten Mustern gelang es die Eigenschaften des HSQ zu erreichen.

Allresist auf dem Kongress EIPBN in Puerto Rico

Erstmals nahm Allresist an der Triple Beam Konferenz (EIPBN 2018) teil. Matthias Schirmer und Dr. Christian Kaiser beantworteten auf ihrem Stand sehr viele Anfragen speziell zu den Elektronenstrahlresists. Die Resists CSAR 62 und Electra 92 sind mittlerweile weltweit etabliert, nun kommen mit Phoenix 81, Atlas 46 und Medusa 82 weitere für die Kunden sehr interessante Resists hinzu.

Brigitte Schirmer als Unternehmerin des Landes Brandenburg mit der Silbermedaille ausgezeichnet

Gestern, am 17. Mai, wurde Brigitte Schirmer als Unternehmerin des Landes Brandenburg 2018 mit dem 2. Platz geehrt. Damit wurde das ganze Unternehmen ausgezeichnet, das innovativ auf dem Weltmarkt aktiv ist und mit engem Kundenbezug maßgeschneiderte Produkte als Alleinstellungsmerkmal ausgebildet hat.

2L-Lift-off-System AR-P 617 – AR-P 8100

Anisolische PPA-Lösungen können auf PMMAcoMA 33 (AR-P 617) beschichtet werden. Die einzelnen Schichten addieren sich jeweils, es findet keine Durchmischung statt; eine entscheidende Voraussetzung für die Realisierung definierter 2- und auch 3-Lagensysteme

CSAR 62 Einlagen-lift-off System

Mit unserer Neuentwicklung E-beam Resist AR-P 6200 (CSAR 62) lassen sich sehr feine Strukturen, wie z.B. 10nm breite Gräben, mit sehr hohem Kontrast >14 generieren bei vergleichsweise hoher Empfindlichkeit.

Fluoreszierende Resiststrukturen Photoresists

Auch in Photoresists können fluoreszierende Farbstoffe eingebettet werden, dabei sind die negativen Photoresists von besonderem Interesse. Durch Einbettung in den negativ arbeitenden ATLAS 46 S konnten Resistschichten erzeugt werden, die wahlweise eine violette, blaue, gelbe, orange oder rote Fluoreszenz zeigen.

37. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
Unsere Firmen-Erweiterung wächst
; Allresist auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2018) und MNE 2018
; Atlas 46 in mehreren Varianten für einen selektiven Zweilagen-Aufbau
; Fluoreszierende Resists für die Optik und Sensorik mit Atlas 46 S
; Medusa 82 – aus einem Resist werden „steinerne“ Strukturen
; Neuer Schutzlack für KOH-/ HF-Ätzungen – BlackProtect SX AR-PC 5000/41