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Für die Herstellung optischer Skalierungen, wie z.B. bei Nachtsichtgeräten, bedient man sich der faszinierenden Möglichkeiten der Fluoreszenz. Dafür haben wir unseren Atlas 46 mit verschiedenen Fluoreszenzfarbstoffen zu versetzt.
Der neue, stark isolierend wirkende Schutzlack SX AR-PC 5060 F-Protect ist eine gute Alternative zum bekannten Resist Cytop®. Der Resist besteht aus einem perfluorierten amorphen Copolymer, gelöst in einem Lösungsmittelgemisch aus Perfluortri-n-butylamin und Perfluor-n-dibutylmethylamin (Fluorinert™ FC-40).
PMMA-Resists werden überwiegend für Elektronenstrahlanwendungen oder als Schutzlacke bei aggressiven nasschemischen Ätzverfahren eingesetzt. Prinzipiell ist die Strukturierung einer PMMA-Schicht auch mittels Tief-UV-Belichtung (220 – 266 nm) möglich. Jedoch ist dort die Empfindlichkeit gering und es resultieren lange Belichtungszeiten.
T-Gate-Strukturen werden häufig für die Realisierung elektronischer Bauelemente (MEMS, HEMTs) benötigt. Entsprechende Nanostrukturen können mittels E-Beamlithografie in Mehrlagenprozessen realisiert werden.
Die Neuentwicklung ATLAS 46 konnte auch erfolgreich für Nanoimprinting eingesetzt werden (Universität Wuppertal, AG Prof. Scheer). In einem ersten Schritt wurden mit dem negativ arbeitenden Resist ATLAS 46S Nanostrukturen hergestellt, die anschließend mit UV-Licht bei einer Wellenlänge von 172nm gehärtet wurden.
Die hervorragenden Eigenschaften des SU-8 sind allen Anwendern der Mikrosystemtechnik bekannt. Der neue Negativresist Atlas 46 S (Solid) von Allresist ist einfach verarbeitbar mit hoher Reproduzierbarkeit der Eigenschaften und großer Widerstandsfähigkeit der Resiststrukturen gegenüber allen gängigen Lösemitteln. Damit ist Atlas 46 S für alle Anwendungen geeignet, bei denen die Schicht permanent und widerstandsfähig auf dem Substrat verbleiben soll.
Das 25-jährige Bestehen feierte das Team der Allresist GmbH im Rahmen einer großen Feierlichkeit. Zu diesem Anlass haben die regionalen Zeitungen ausführliche Berichte über das erfolgreiche Unternehmen veröffentlicht.
Themen im Überblick:
25 Jahre Allresist – eine Erfolgsgeschichte auch der Resistentwicklung
; Allresist auf dem Kongress MNE mit Atlas 46
; Neue innovative Produktentwicklungen
; Fluoreszierende und farbige Resists für die Optik und Sensorik
; dicker(er) CSAR 62 für die Herstellung tiefer Ätzgruben
; CSAR 62 innerhalb eines Dreilagensystems zur Erzeugung von T-Gates
Themen im Überblick:
25 Jahre Allresist – eine Erfolgsgeschichte auch der Resistentwicklung
; Allresist auf dem Kongress MNE mit Atlas 46
; Neue innovative Produktentwicklungen
; Fluoreszierende und farbige Resists für die Optik und Sensorik
; dicker(er) CSAR 62 für die Herstellung tiefer Ätzgruben
; CSAR 62 innerhalb eines Dreilagensystems zur Erzeugung von T-Gates
In dem Vierteljahrhundert Ihres Bestehens hat sich Allresist einen festen Platz auf dem Weltmarkt und einen exzellenten Ruf bei den Kunden erarbeitet. Darum feierten wir am 16. Oktober 2017 unser Jubiläum gebührend mit einer Festveranstaltung.
Seit 1992 bieten wir unseren Kunden eine hohe Qualität unserer Produkte bei moderaten Preisen. Durch unsere Forschungsabteilung und unser Ohr am Kunden können wir schnell auf die Bedürfnisse des Marktes eingehen und stetig neue Produktinnovationen anbieten.
Allresist GmbH
Am Biotop 14
15344 Strausberg
Tel: +49 3341 – 35 93 0
Fax: +49 3341 – 35 93 29
E-Mail: info(a)allresist.de
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