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Einträge von AllAdmin

CSAR 62 für dicke Schichten

Intensive Plasmaätzanwendungen zur Herstellung tiefer Ätzstrukturen mit hohem Aspektverhältnis erfordern ätzstabile Resists und höhere Schichtdicken, die jedoch besondere Anforderungen an Auflösung und Kontrast stellen.

Fluoreszierende Resiststrukturen E-Beam-Resists

Fluoreszenz ist die spontane Emission von Licht kurz nach der Anregung eines Materials durch elektronische Übergänge. Dabei ist das emittierte Licht in der Regel energieärmer als das vorher absorbierte.

Eingefärbte Negativ-Photoresists

Allresist bietet mittlerweile auch gefärbte Negativresists mit der Bezeichnung SX AR-N 8500 an. Der Unterschied zu den FUJIFILM Lacken besteht darin, dass in den Resists Farbstoffe und keine Pigmente gelöst sind. Damit können eine hohe Auflösung und scharfe Kanten erreicht werden.

Innovative Neuentwicklungen auf der MNE 2017

Allresist nahm am Kongress als Silbersponsor mit eigenem großen Stand teil und konnte viele beachtliche Neuigkeiten präsentieren. Ein besonderes Highlight war unser Wissenschafts-Poster zu unserer Neuentwicklung AR-N 4600 alias Atlas 46 und die neuen Farblacke.

35. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
Allresist plant erneute Gebäude-Erweiterung im 25. Jahr ihres Bestehens
; Neue innovative Produktentwicklungen
; Wissenschaftliche Partnerschaften für die MNE 2017

Oktober 2017: Fluoreszierende Resiststrukturen mit SX AR-P 672.08

Fluoreszierende Strukturen werden für optische Komponenten und in der Mikroskopie benötigt. In enger Zusammenarbeit mit der Präzisionsoptik Gera GmbH ist es uns nun gelungen, PMMA E-Beamresists auf Anisolbasis mit fluoreszierenden Farbstoffen zu versetzen und diese mittels Elektronenstrahl-Lithographie zu strukturieren.

Entwicklerkaskade

Für eine optimale Ausnutzung der Entwickler und für die höchste Sauberkeit bei der Tauchentwicklung wird die Nutzung einer Kaskade empfohlen. Die Entwicklung erfolgt oft in nur einem Behälter.

CAR 44 auf Kupfer

Wird der Negativ-Photoresist CAR 44 (AR-N 4400) direkt auf Kupfer- oder kupferhaltigen Substraten eingesetzt, muss folgendes beachtet werden.

Neuer AR 300-80 mit Kontaktwinkelmessung

Neben dem etablierten Haftvermittler AR 300-80 (basierend auf Diphenylsilandiol) können auch weitere siliziumhaltige Verbindungen eingesetzt werden, um hydrophile Oberflächen zu hydrophobisieren.

Allresist auf der MNE und Semicon

Allresist ist während des Jahres auch auf Messen und Kongressen vertreten.

Nutzen Sie die Chance und besuchen Sie uns!

MNE 2017 in Braga, Portugal (18. – 21. September 2017)

Semicon Europa 2017 in München (14. – 17. November 2017)

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