53. Ausgabe der AR NEWS
Inhalt: 1. Allresist auf den Konferenzen EIPBN (USA), MNE (Schweiz) und SEMICON Europa // 2. Der etablierte HSQ-Resist Medusa 84 SiH // 3. Phoenix 81 auch als PPA-Flüssigresist für den NanoFrazor // 4. Umweltfreundliche Alternativen für TMAH- und NEP-basierte Prozesschemikalien // 5. Allresist expandiert und beginnt im Mai mit Erweiterungsbau
