38. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
26 Jahre Allresist – Einweihung des neuen Anbaues zum Firmenjubiläum
; Allresist landet mit Medusa 82 großen Erfolg auf der MNE 2018
; Weitere Allresist-Highlights auf der MNE
; Atlas 46 für die E-Beam-Lithographie
; Phoenix 81 – der weltweite Vertrieb beginnt
; Nachwuchs bei Allresist – Next Generation

37. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
Unsere Firmen-Erweiterung wächst
; Allresist auf den Kongressen Triple Beam (EIPBN 2018) und MNE 2018
; Atlas 46 in mehreren Varianten für einen selektiven Zweilagen-Aufbau
; Fluoreszierende Resists für die Optik und Sensorik mit Atlas 46 S
; Medusa 82 – aus einem Resist werden „steinerne“ Strukturen
; Neuer Schutzlack für KOH-/ HF-Ätzungen – BlackProtect SX AR-PC 5000/41

36. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
25 Jahre Allresist – eine Erfolgsgeschichte auch der Resistentwicklung
; Allresist auf dem Kongress MNE mit Atlas 46
; Neue innovative Produktentwicklungen
; Fluoreszierende und farbige Resists für die Optik und Sensorik
; dicker(er) CSAR 62 für die Herstellung tiefer Ätzgruben
; CSAR 62 innerhalb eines Dreilagensystems zur Erzeugung von T-Gates

36. Ausgabe der AR News

Themen im Überblick:
25 Jahre Allresist – eine Erfolgsgeschichte auch der Resistentwicklung
; Allresist auf dem Kongress MNE mit Atlas 46
; Neue innovative Produktentwicklungen
; Fluoreszierende und farbige Resists für die Optik und Sensorik
; dicker(er) CSAR 62 für die Herstellung tiefer Ätzgruben
; CSAR 62 innerhalb eines Dreilagensystems zur Erzeugung von T-Gates

35. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
Allresist plant erneute Gebäude-Erweiterung im 25. Jahr ihres Bestehens
; Neue innovative Produktentwicklungen
; Wissenschaftliche Partnerschaften für die MNE 2017

34. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick: Allresist plant erneute Erweiterung ihres Gebäudes im 25. Jahr Ihres Bestehens; Neue Vertriebspartner; Thermisch entwickelbarer Positivresist „Phoenix 81“; Negativ-Photoresist „Atlas 46“ unsere wirkungsvolle Alternative zum SU-8; Positiv CAR-E-Beamresist „EOS 72“ unsere Antwort auf den FEP 171; 25 Jahre Allresist

33. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
24. Jubiläum Allresist;
Allresist Silbersponsor auf der MNE 2016 in Wien;
Neues von CSAR 62 und Electra 92;
Optimierte T-Gate-Strukturen mit Dreilagensystemen aus PMMA, Copolymer 617 und CSAR 62;
Neue Entwickler für PMMAcoMA (AR-P 617, 50 kV);
Neues Labor und neuer Rotationsverdampfer für die Produktion

32. Ausgabe der AR News

Themen im Überblick:
; Allresist im 24. Jahr mit Innovationen weiter im Aufschwung
; Polyphthalaldehyd (PPA) als E-Beamresist
; Leitfähige Polymerelektroden für Stapelaktoren – smart3
; Polyphotonics – neue Resists für optische Komponenten bzw. Anwendungen in
der Mikroelektronik

31. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
; Innovative Neuentwicklungen auf der MNE 2015 und SEMICON Europa vorgestellt:
Ein Fall für Zwei – CSAR 62 & Electra 92
; Espacer-Alternative Electra 92 erfüllt Anwendererwartungen
; Lange Haltbarkeit von Electra 92
; CSAR-Strukturen auf Glas, ermöglicht durch Electra 92
; PMMA-Lift-off-Strukturen auf Halbedelsteinsubstraten mittels Electra 92
; Electra 92 für Anwendungen auf novolakbasierten Resists –
Neue Variante SX AR-PC 5000/91.1 für Negativ-CAR AR-N 7700 auf Glas
; PPA-Litho-Projekt: Erste Beispiele für die Anwendung der neuen PPA-Resists
; Allresist wird 23 Jahre alt und verjüngt sich
; Chemnitzer Seminar „Elektronenstrahl-Lithographie“ im Fraunhofer Institut ENAS

30. Ausgabe der AR NEWS

Themen im Überblick:
Investition in die Sonne – Errichtung einer Photovoltaikanlage auf Allresist-Dach
; Hochempfindlicher Negativresist für die Laser-Direktbelichtung
; PPA-Litho-Projekt: Resists für neue Lithographie-Anwendungen
; Weitere CSAR 62-Anwendungen – hoch präzise Rechteckstrukturen
; Neue Ergebnisse mit Electra 92