Themen im Überblick: Allresist plant erneute Erweiterung ihres Gebäudes im 25. Jahr Ihres Bestehens; Neue Vertriebspartner; Thermisch entwickelbarer Positivresist „Phoenix 81“; Negativ-Photoresist „Atlas 46“ unsere wirkungsvolle Alternative zum SU-8; Positiv CAR-E-Beamresist „EOS 72“ unsere Antwort auf den FEP 171; 25 Jahre Allresist
Themen im Überblick:
24. Jubiläum Allresist;
Allresist Silbersponsor auf der MNE 2016 in Wien;
Neues von CSAR 62 und Electra 92;
Optimierte T-Gate-Strukturen mit Dreilagensystemen aus PMMA, Copolymer 617 und CSAR 62;
Neue Entwickler für PMMAcoMA (AR-P 617, 50 kV);
Neues Labor und neuer Rotationsverdampfer für die Produktion
Themen im Überblick:
; Allresist im 24. Jahr mit Innovationen weiter im Aufschwung
; Polyphthalaldehyd (PPA) als E-Beamresist
; Leitfähige Polymerelektroden für Stapelaktoren – smart3
; Polyphotonics – neue Resists für optische Komponenten bzw. Anwendungen in
der Mikroelektronik
Themen im Überblick:
; Innovative Neuentwicklungen auf der MNE 2015 und SEMICON Europa vorgestellt:
Ein Fall für Zwei – CSAR 62 & Electra 92
; Espacer-Alternative Electra 92 erfüllt Anwendererwartungen
; Lange Haltbarkeit von Electra 92
; CSAR-Strukturen auf Glas, ermöglicht durch Electra 92
; PMMA-Lift-off-Strukturen auf Halbedelsteinsubstraten mittels Electra 92
; Electra 92 für Anwendungen auf novolakbasierten Resists –
Neue Variante SX AR-PC 5000/91.1 für Negativ-CAR AR-N 7700 auf Glas
; PPA-Litho-Projekt: Erste Beispiele für die Anwendung der neuen PPA-Resists
; Allresist wird 23 Jahre alt und verjüngt sich
; Chemnitzer Seminar „Elektronenstrahl-Lithographie“ im Fraunhofer Institut ENAS
Themen im Überblick:
Investition in die Sonne – Errichtung einer Photovoltaikanlage auf Allresist-Dach
; Hochempfindlicher Negativresist für die Laser-Direktbelichtung
; PPA-Litho-Projekt: Resists für neue Lithographie-Anwendungen
; Weitere CSAR 62-Anwendungen – hoch präzise Rechteckstrukturen
; Neue Ergebnisse mit Electra 92
Themen im Überblick:
Einweihungsfeier unseres Anbaus pünktlich zum 22. Allresist-Jubiläum
; Neue Anwendungsergebnisse mit dem CSAR 62 (dickere Schichten)
; Eurostar Projekt PPA-Litho startet am 1. November
; Neuentwicklungen von Allresist
Themen im Überblick: Neues bei Allresist: Anbau für höhere Produktionskapazität, Zweitplatzierte Unternehmerin
des Landes Brandenburg und errungener Innovationspreis Brandenburg ; Neuer leitfähiger Schutzlack für die E-Beam-Lithographie SX AR-PC 5000/90.2
; Neuer E-Beamresist SX AR-N 7530/1 für Weißlicht-Applikationen
; AR-P 3540 MIF – ein Resist der mehr kann! (Erfahrungsbericht unserer Partner)
; Allresist auf der Semicon China 2014
Themen im Überblick: Erfolgreiches Jahr 2013 für Allresist ; Gründung des German Innovation Center in Changzhou
; Erfolgreiche Einführung des CSAR 62
; Maskblank-Herstellung in Vorbereitung
; Thermostabile Negativ-Resists
; Leitfähiger Lack für die E-Beam-Lithographie
; Allresist auf der Semicon Europe 2013
Themen im Überblick: Anerkennung für den Ludwig-Erhard-Preisträger Allresist ; CSAR 62 – eine künftige Alternative für den ZEP-Resist ; NIR-Lack in der Entwicklung – erste Erfolge
Themen im Überblick: 20 Jahre Allresist – eine Entwicklung vom MBO zum Unternehmen der Excellence ; Erfolgreiches Assessment beim Vorortbesuch für den Ludwig-Erhard-Preis ; Projekt VEGAS eingereicht ; Unsere Neuentwicklungen – erste Ergebnisse