4. Überwachungsaudit
Planmäßig fand am 23.02.2007 das 4. Überwachungsaudit im Rahmen unseres Qualitätsmanagementsystemes statt. Herr Dr. Leonhardt von der TÜV Management Service GmbH, TÜV Süd Gruppe,
Bewerbung um den Zukunftspreis und Einführung einer umfassenden ERP-Software
Allresist hat sich im September 2006 erneut um den Zukunftspreis Ostbrandenburgs beworben. Nachfolgend der Bewerbungstext: “Mit Allresist hat sich in Ostbrandenburg ein leistungsstarkes Unternehmen etabliert,
Allresist unterstützt Strausberg beim Kampf um die Kompetenzzentren
Bei einem Treffen mit Minister Junghans im Lakeside in Strausberg waren die innovativsten Unternehmen aufgefordert, die wirtschaftliche Stärke der Region zu demonstrieren. Eingeladen hatte der Bürgermeister der Stadt Strausberg,
Nominierung für das Finale des Innovationspreises Berlin/Brandenburg
Aus 175 Bewerbungen wurde die Allresist neben 6 anderen Unternehmen für den Innovationspreis Berlin-Brandenburg nominiert. Die Allresist GmbH wurde für ihr erfolgreiches Forschungsprojekt
Qualifizierungsmaßnahmen im Rahmen des QMS
Die Mitarbeiter der Allresist vervollkommnen ihr Wissen bei den Qualifizierungsmaßnahmen. Diese Seminarreihe bildete den Auftakt zum Verständnis des EFQM. Das Verstehen und Leben des anspruchsvollen Qualitätsmanagementsystems soll die Mitarbeiter befähigen,
Kooperation in China begonnen
Aufbauend auf den Kontakten der Semicon China 2003 und in Zusammenarbeit mit der SINOMAN Trading Shanghai wurden erste konkrete Kontakte in China geknüpft. Gespräche mit der Jiangying Jianghua Company zeigten die Möglichkeiten und den Willen zur Zusammenarbeit.
HARMST 2005 in Korea
In diesem Beitrag wird der neu entwickelte Negativresist CAR 44 für die Mikrosystemtechnik vorgestellt. Der CAR 44 verfügt über ähnliche Eigenschaften wie der SU-8, besitzt jedoch darüber hinaus bedeutende Vorteile.
Wiederentfernbarer Negativresist für dicke Schichten – CAR 44
In der LIGA- und Mikrosystemtechnik wird weltweit der Negativresist SU-8 eingesetzt. Neben seinen anerkannt exzellenten Eigenschaften besitzt er jedoch auch einige Nachteile. Der Größte ist die äußerst schwierige Entfernbarkeit der vernetzten Strukturen nach dem Prozess.
Hochempfindlicher Negativresist für i-line-Lithographie – AR-N 4300
Negativresists werden im Vergleich zu Positivresists in der Mikroelektronik deutlich seltener eingesetzt. Um jedoch auch für diese Applikationen einen erstklassigen Resist anbieten zu können,
Sensor Messe in Nürnberg
Nunmehr zum 4. Mal nimmt Allresist an der Sensor-Messe in Nürnberg als Aussteller teil. Mitaussteller war das IDM e.V., Teltow. Wie in den letzten Jahren wurde eine Vielzahl von Kontakten geknüpft.