Allresist in Strausberg
Innerhalb des letzten Jahres gab es große Veränderungen für die Allresist GmbH. Das neue, eigene Firmengebäude wurde im Dezember 1999 eingeweiht. Neben der Kapazitätserweiterung,
E-Beam-Lithographie an 5 µm dicken Resistschichten
Der Elektronenstrahlresist X AR-N 7700.38 wurde an der Humboldt-Universität-Berlin, Sektion Physik, getestet. Es wurden 5 µm dicke Resistschichten mit einer Beschleunigungsspannung von 20 kV bestrahlt und entwickelt.
Diffraktive Optiken mit dem „analogen“ E-Beamresist X AR-N 7700/18
In enger Zusammenarbeit mit der Universität Joensuu, Finnland, wurde ein E-Beamresist konzipiert, der in Abhängigkeit von der Bestrahlungsdosis eine dreidimensionales Resistprofil erzeugt.