Januar 2024: Electra 92 am Markt etabliert – AR-PC 5092.02

Am AMOLF wurde Electra 92 auf HSQ beschichtet, welches auf eine 40 nm dicke SiO2-Schicht eines Siliziumwafers aufgebracht war. Aufgrund seiner stark hydrophoben Oberfläche ist HSQ besonders anspruchsvoll. Für diese Aufgabe war eine speziell angepasste Variante des Electra 92 erforderlich.

Oktober 2023: Medusa 84 SiH – SX AR-N 8400 eine weitere Alternative zum HSQ

Da Medusa 84 SiH, im Gegensatz zu Medusa 82 aus rein anorganischen Komponenten besteht, ist seine optische Transparenz deutlich höher. Diese Transparenz ist für eine größere Kundengruppe wichtig, die solche Resists für optische Anwendungen nutzen.

April 2023: Der E-Beam PMMA-Resist AR-P 672.045 – das Arbeitspferd für die Elektronenstrahl-Lithographie

Aufgrund der großen Absatzmenge ist der AR-P 672.045 unser interner „Marktführer“. Dieser Resist wird von drei großen Mikrochip-Herstellern in Frankreich, Deutschland und China eingesetzt. Damit erhöht sich der Verbrauch stetig; mittlerweile werden jährlich über 300 Liter allein von diesem Resist bestellt.

Januar 2023: Der Standardresist AR-P 3510 – 30 Jahre auf dem Weltmarkt

Von Anfang an war der Gedanke der Nachhaltigkeit fest in der Firmenphilosophie der Allresist verankert. Eine der ersten Weiterentwicklung des jungen Unternehmens war der Austausch der teratogenen Lösemittel des Positiv-Photoresists AR-P 351 durch Safer Solvents. So entstand der Standardresist AR-P 3510, bei dem die exzellenten lithographischen Eigenschaften beibehalten wurden, der Lack aber für die Anwender nun bedeutend ungefährlicher war.

Oktober 2022: Electra 92 weiter optimiert – ein neuer AR-PC 5092

Wir haben nun eine Qualität der Anilin-Polymere erreicht, bei der auf den Zusatz von Isopropanol verzichtet werden kann. Dadurch erhöht sich auch die Stabilität der Resistmischungen des AR-PC 5092. Langzeitversuche belegen, dass die Lagerstabilität deutlich höher ist als bei den bisherigen Electra-Varianten.

Juli 2022: Unser Resist-Triplett des Monats auf der Triple-Beam (EIPBN 2022)

Nach der coronabedingt lediglichen online-Präsenz in den letzten beiden Jahren nahm Allresist endlich wieder einmal live an der EIPBN in New Orleans teil. Auf unserem Stand erlebten wir ein großes Interesse an unseren Resists.

April 2022: Neuer, umweltfreundlicher Entwickler für PMMA-Resists AR 600-57

Ausnahmsweise stellen wir heute in der Rubrik „Resist des Monats“ einen neuen PMMA-Enwickler vor, dessen potentielle Möglichkeiten auch unsere Anwender begeistern werden. Dieser Entwickler ist eine Mischung aus Isopropanol und Wasser – das mag zunächst erstaunlich klingen, da beide Komponenten einzeln eine PMMA-Schicht nicht angreifen.

Januar 2022: Vielseitiger Phoenix 81 (AR-P 8100)

Phoenix 81 wurde im Rahmen eines Eurostar-Projektes gemeinsam mit der Swisslitho AG (jetzt Heidelberg Instruments Nano) entwickelt. Mit dem NanoFrazor lassen sich durch thermische Rastersonden-Lithographie (thermal scanning probe lithography oder t-SPL) bis zu 10 nm kleine Strukturen schreiben, indem eine heiße Nadel in die Resistschicht taucht und diese an der Stelle verdampft (siehe u.a. AR NEWS, 42. Ausgabe).

Oktober 2021: Effizientere Herstellung von Electra 92

Viele Anwender nutzen mittlerweile die Leitfähigkeit der Electra-Schichten für ihre Prozesse und Technolgien. Seit der Einführung in den Markt 2018 wurden die Synthese und die Aufarbeitung von Electra stetig verbessert. Es gelang z.B., die Leitfähigkeit im Zeitraum von 2018 bis 2020 um den Faktor 5 zu erhöhen.

Juli 2021: Car 44 für galvanische Abformungen

Für die Herstellung galvanischer Bauteile ist der SU-8 wegen seine exzellenten Strukturgüte prinzipiell geeignet. Jedoch spricht die außerordentlich schwierige Entfernung der Resiststrukturen nach der Galvanik gegen einen Einsatz.