Resist des Monats

Resist des Monats Januar 2016: Electra 92 Produktionseinführung

Electra 92 hat die Feuertaufe bei den Anwendern gut bestanden. Immer mehr zufriedene Kunden geben ihr Feedback zu den exzellenten Eigenschaften des AR-PC 5090.02
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Resist des Monats Oktober 2015: E-Beamlithographie auf Glas – CSAR 62 und Electra 92

Auf der MNE 2015 in Den Haag stellte Allresist dieses präzise und einfach zu handhabende Zweilagen-System mit großem Erfolg vor.
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Resist des Monats Juli 2015: Prozessangepasster Zweilagenresist AR-BR 5460

Der Bottom Resist AR-BR 5460 wird in Kombination mit Positiv- (z.B. AR-P 3510) oder Negativresists (z.B. AR-N 4340) seit einem Jahrzehnt bei vielen Lift-off-Applikationen eingesetzt.
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Resist des Monats April 2015: Hochempfindlicher Negativresist AR-N 4400-10

Der Negativresist AR-N 4400-10 wurde mit einem Laser-Direktbelichter bei einer Belichtungswellenlänge von 405 nm strukturiert. In der Abbildung sind unterschiedliche Arrays zu erkennen.
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Resist des Monats Januar 2015: Hochtemperaturbeständiger Positivresist

Nach gelungener Entwicklung des bis zu 350 °C temperaturstabilen Negativresists SX AR-N 4340/7 können wir nun auch eine temperaturbeständige Positiv-Variante anbieten. Dieser Positivresist heißt SX AR-PC 3500/8 und kann ...
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Resist des Monats Oktober 2014: Schutzlack

Unser Schutzlack AR-PC 504 hat sich in den letzten 6 Jahren vielfach bei unseren Kunden bewährt. Die Polymerschichten schützen die Substrate zuverlässig gegen konzentrierte Laugen und Säuren.
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Resist des Monats Juli 2014: Electra 92

Allresist hat gemeinsam mit dem IDM e.V., Teltow ein neues Polymer auf Polyanilin-Basis entwickelt. In der 28. AR NEWS wurde der neue leitfähige Schutzlack SX AR-PC 5000/90.2 bereits vorgestellt.
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Resist des Monats Archiv: April 2014

Im April 2013 berichteten wir im Rahmen unseres „Resist des Monats“ über den CSAR 62. Nach einer raschen Entwicklungsphase begann bereits im Mai der Verkauf des neuen Elektronenstrahllackes.
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Resist des Monats Archiv: Oktober 2013

Resist des Monats Oktober 2013: Thermostabiler Negativresist SX AR-N 4340/6 Der letzte Resist des Monats war das thermostabile Zweilagensystem SX AR-N 4340/10 – AR-P 5460, dass Temperaturen bis 200 °C sicher aushält.
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Resist des Monats Archiv: Juli 2013

Resist des Monats Juli 2013: Thermostabiles Zweilagensystem – SX AR-N 4340/10 – AR-P 5460 Bei vielen Lift-off-Applikationen wird die Resistschicht hohen thermischen Belastungen ausgesetzt.
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