Thermisch stabile Zweilagen-lift-off-Systeme

Bei den Anwendungen der Lift-off-Strukturen treten beim z.B. Besputtern häufig Temperaturen von über 150 °C auf. Mit den üblichen Photoresists als Top-Layer kommt es dann zum Schmelzen der Lift-off-Struktur, wodurch sie unbrauchbar für den Prozess wird.

Gebrauchsfertige Sprühresists mit EVG-Geräten (Positiv und Negativ)

Das Spray-Coating wird oft für die Beschichtung komplizierter Topologien verwendet. Es gibt verschiedene Hersteller für Spray-Coating Geräte, die beiden wohl bekanntesten sind die EV Group und Süss Microtec.

Allgemeines: Resistzusammensetzung

Die mit Abstand meist gebrauchten Resists sind die Positiv-Photoresists, gefolgt von den Negativ-Photoresists. Es gibt jedoch auch andere Speziallacke.

Elektronenstrahllacke (Resists)

Zu den ersten und heute immer noch vielfach genutzten Lacken zählen kurzkettige als auch langkettige Polymethylmethacrylate.

Schreibzeit

Die minimal benötigte Bestrahlungszeit für eine bestimmte Fläche, bei gegebener Bestrahlungsdosis, lässt sich durch den folgenden Zusammenhang berechnen: Fläche * Dosis = Belichtungsdauer * Strahlstrom

Auflösungsvermögen

Im Unterschied zur Photolithographie ist die Auflösung bei der E-Beam Lithographie praktisch nicht durch die Wellenlänge limitiert. Elektronen einer Energie von 25keV besitzen eine Wellenlänge < 0,01 nm.

Aufladung

Ein Teil der auf dem Substrat auftreffenden hochenergetischen Elektronen wird gestoppt und kann insbesondere im Fall isolierender Substrate wie z.B. Quarz, nicht oder nur sehr langsam Richtung Masse abgeführt werden.

Proximity-Effekt

Der Proximity-Effekt basiert im Wesentlichen auf der Streuung von Elektronen im Substrat und auch im Resistmaterial aufgrund der elektrischen Wechselwirkung zwischen den Elektronen und führt zu einer Vergrößerung der geschriebenen Strukturen, da angrenzende Bereiche mit bestrahlt werden, entsprechend kommt es auch zu einer Verringerung des Kontrastes.

Erzeugung von Sekundärelektronen

Einfallende Primärelektronen können beim Eintritt oder Durchqueren von Resistschichten neben den auftretenden elastischen Streueffekten bei einer Kollision mit anderen Elektronen oder Atomen auch unelastisch gestreut werden.