E-Beam Resists auf Basis von Polyphthalaldehyden

PPA-Schichten können durch Elektronenbeschuss direkt positiv strukturiert werden. Ähnlich wie bei der Bestrahlung der sonst verwendeten E-Beam Resists, wie z.B. CSAR 62 oder PMMA, bewirkt der Elektronenstrahl eine Fragmentierung der Polymerketten.

Thermo-strukturierbare Polymere – neue Lithographie-Anwendungen

Im Rahmen des Eurostar-Projekts PPA-Litho evaluiert Allresist mit anderen Kooperationspartnern neuartige, hochwertige Resists auf der Basis von Polyphthalaldehyd (PPA).

Strukturierung des leitfähigen Schutzlacks Electra 92

Eine Strukturierung des leitfähigen Lackes Electra 92 ist in einem gewissen Umfang möglich. Dazu wird folgendes Verfahren verwendet: Auf dem Substrat wird ein Negativ-Resist (z.B. AR-N 4340) beschichtet, belichtet und entwickelt.

Hohe Auflösung auf Quarz durch Electra 92 auf einem HSQ-Resist

Ohne Einsatz einer leitfähigen Beschichtung ist eine präzise Strukturierung auf Quarz nicht möglich. Die Raith GmbH hat untersucht, dass nach Beschichtung mit Electra 92 ein HSQ-Resist XR1541 auf einem Quarzsubstrat mit sehr guter Qualität strukturiert werden konnten.