Durch Verwendung des negativ Resists AR-N 4400-50 können dicke Lackschichten >200 µ m durch mehrmaliges Beschichten aufgebaut werden (siehe Produktinfo CAR 44). Entscheidend für die Qualität der zu erzeugenden Strukturen ist das Trocknungsregime.
Bei einigen Anwendungen kann das Substrat, auf dem der Negativlack eingesetzt werden soll, nicht erwärmt werden. Das trifft auf empfindliche Gläser und vor allem auf sehr große Substrate zu.
Am Beispiel vom AR-N 4340 werden Prozessparameter, Empfindlichkeit, Auflösung, Kantenqualität und Maßverhalten dargestellt. Die Untersuchungen erfolgten auf 150mm-Wafern mit Si-Oberfläche.
Positiv-Zweilagen-Systeme sind schon lange auf dem Markt. Nun mehr gibt es auch Varianten mit Negativresists als Oberlack. Der größte Vorteil für die Neuerung ist die höhere thermische Stabilität von Negativlacken.
Als Alternative zum Polyimid-Negativresist wurde ein auf Polyhydroxystyren basierender, sehr empfindlicher CAR-Negativlack entwickelt, der wässrig alkalisch entwickelt werden kann.
Als Alternative zu dem Positiv-Polyimid-Resist ( SX AR-PC 5000/82.7 ), der schon im Lösemittel ein Polyimid ist und somit kein Curing-Prozess (siehe “Positiv-Polyimid Resist” ) bei 350-
Allresist bietet auch unterschiedliche Negativresists für die Sprühbeschichtung an. Diese sind in diesem Artikel beschrieben (siehe Sprühlacke für unterschiedliche Topologien (Positiv und Negativ)
Die meisten Novolak-basierten Photoresists zeichnen sich durch eine sehr gute Ätzstabilität gegenüber Säuren aus (außer hochkonzentrierten, oxidierenden Säuren oder konzentrierter Flusssäure)
Neue, wässrig-alkalische lösliche Polymere können die Novolake in einigen Eigenschaften übertreffen.