Lösemittel und Arbeitsschutz
Alle von uns angebotenen Resists, sowie ein großer Teil der Prozesschemikalien enthalten organische Lösemittel. Die Bestimmungen der Gefahrstoffverordnung sind beim Umgang mit diesen Produkten einzuhalten.
Alle von uns angebotenen Resists, sowie ein großer Teil der Prozesschemikalien enthalten organische Lösemittel. Die Bestimmungen der Gefahrstoffverordnung sind beim Umgang mit diesen Produkten einzuhalten.
Richtiges Verdünnen von Lacken. (siehe Verdünnung von Resists) Jeder Resist besteht hauptsächlich aus Lösemitteln. Die meisten Photoresists und die Negativ-E-Beam Resists verwendet als Hauptlösemittel das PMA (PGMEA)