z_AR-P 3100 Archives - Allresist DE

Allresist GmbH | +49 3341 - 35 93 0 | info(a)allresist.de | DE | EN

Startseite
Allresist
- Über uns
- Qualitätsanspruch
- Presse
Produkte
- E-Beam Resist
  - Resists für die Elektronenstrahl-Lithographie
- Photoresist
  - Resists für die Optische Lithographie
- Schutzresist
  - Resists zum Schutz von anderen Resist-Strukturen
- Bottomresist
  - Resists zur Gestaltung von komplizierten Strukturen
- Prozesschemikalien
  - Chemikalien für den Arbeitsprozess mit Resists (Verdünner, Remover, Haftvermittler, Stopper, Entwickler)
FuE
- Forschungsprojekte
  - Durch die vielseitigen erfolgreich abgeschlossenen Projekte bilden wir die ideale Schnittstelle zwischen Industrie und Forschung.
- Kooperationspartner
  - Mit unseren langjährigen Kooperationspartnern entwickeln wir für unsere Kunden neue maßgeschneiderte Produkte.
Resist-Wiki
Service
- Portfolio
  - Wir bieten Ihnen eine breite Service-Palette von Sonderanfertigungen eines Resist bis zur schnellen Auslieferung innerhalb weniger Tage.
- Downloads
  - Hier können Sie alle wichtigen Dokumente herunterladen, wie z.B. Sicherheitsdatenblätter und Produktinformationen.
Kontakt
- Kontaktformular
  - Bitte kontaktieren Sie uns bei Fragen und Wünschen!
- Kundenberater
  - Unsere Kundenberater stehen Ihnen gerne zur Seite und beraten Sie fachkundig.
- Vertriebspartner
  - Unsere Produkte werden in bestimmten Ländern von unseren langjährigen Vertriebspartnern verkauft.
- Messen und Kongresse
  - Besuchen Sie uns doch auf Messen und Kongressen. Wir freuen uns auf Sie!
Suche
Menü Menü

Sie sind hier: Startseite1 / Resist-Wiki2 / z_AR-P 3100

Haftvermittler HMDS und Diphenylsilandiol (AR 300-80)

28. Februar 2013/in Haftvermittler, z_AR-P 3100 /von AllAdmin

Resists haften unterschiedlich gut auf verschiedenen Oberflächen. Viele Substrate wie, z.B. Silizium, Siliziumnitrid und Nichtedelmetalle (wie Aluminium, Kupfer) weisen im Allgemeinen eine gute Lackhaftung auf,

https://www.allresist.de/wp-content/uploads/2017/03/logo_allresist.png 0 0 AllAdmin https://www.allresist.de/wp-content/uploads/2017/03/logo_allresist.png AllAdmin2013-02-28 14:52:252019-10-16 14:35:27Haftvermittler HMDS und Diphenylsilandiol (AR 300-80)

Andere Bestandteile von Resists

16. Juli 2012/in Grundlegende Chemie, z_AR-P 3100 /von AllAdmin

Die Lösemittel sind der Hauptbestandteil aller Resists. Von 50% (Dicklacke) bis zu 99% (Sprühlacke) beträgt der Anteil der Lösemittel. Die ersten Resists vor 1980 enthielten noch gesundheitsschädliche Lösemittel Toluol oder Cyclohexanon.

https://www.allresist.de/wp-content/uploads/2017/03/logo_allresist.png 0 0 AllAdmin https://www.allresist.de/wp-content/uploads/2017/03/logo_allresist.png AllAdmin2012-07-16 09:28:572021-06-08 21:47:40Andere Bestandteile von Resists

Unser Qualitätsversprechen

Seit 1992 bieten wir unseren Kunden eine hohe Qualität unserer Produkte bei moderaten Preisen. Durch unsere Forschungsabteilung und unser Ohr am Kunden können wir schnell auf die Bedürfnisse des Marktes eingehen und stetig neue Produktinnovationen anbieten.

Anmeldung zu den AR NEWS

Kontakt

Allresist GmbH

Am Biotop 14
15344 Strausberg

Tel: +49 3341 – 35 93 0
Fax: +49 3341 – 35 93 29

E-Mail: info(a)allresist.de

Nach oben scrollen

Um unsere Webseite für Sie optimal zu gestalten zu können, verwenden wir technisch notwendige Cookies und Cookies für eine Besucherstatistik (Google-Analytics).Notwendige und Statistik Cookies laden Nur notwendige Cookies laden Datenschutzerklärung