Aktueller Resist für die Startseite

April 2022: Neuer, umweltfreundlicher Entwickler für PMMA-Resists AR 600-57

Ausnahmsweise stellen wir heute in der Rubrik „Resist des Monats“ einen neuen PMMA-Enwickler vor, dessen potentielle Möglichkeiten auch unsere Anwender begeistern werden. Dieser Entwickler ist eine Mischung aus Isopropanol und Wasser – das mag zunächst erstaunlich klingen, da beide Komponenten einzeln eine PMMA-Schicht nicht angreifen.

Januar 2022: Vielseitiger Phoenix 81 (AR-P 8100)

Phoenix 81 wurde im Rahmen eines Eurostar-Projektes gemeinsam mit der Swisslitho AG (jetzt Heidelberg Instruments Nano) entwickelt. Mit dem NanoFrazor lassen sich durch thermische Rastersonden-Lithographie (thermal scanning probe lithography oder t-SPL) bis zu 10 nm kleine Strukturen schreiben, indem eine heiße Nadel in die Resistschicht taucht und diese an der Stelle verdampft (siehe u.a. AR NEWS, 42. Ausgabe).

Oktober 2021: Effizientere Herstellung von Electra 92

Viele Anwender nutzen mittlerweile die Leitfähigkeit der Electra-Schichten für ihre Prozesse und Technolgien. Seit der Einführung in den Markt 2018 wurden die Synthese und die Aufarbeitung von Electra stetig verbessert. Es gelang z.B., die Leitfähigkeit im Zeitraum von 2018 bis 2020 um den Faktor 5 zu erhöhen.

Juli 2021: Car 44 für galvanische Abformungen

Für die Herstellung galvanischer Bauteile ist der SU-8 wegen seine exzellenten Strukturgüte prinzipiell geeignet. Jedoch spricht die außerordentlich schwierige Entfernung der Resiststrukturen nach der Galvanik gegen einen Einsatz.

April 2021: CSAR 62 – weltweit begehrt

Mittlerweile hat sich der CSAR 62 weltweit etabliert und die Nachfrage steigt immer weiter. Da wir das Polymer selber herstellen, mussten wir ein Skaling Up der Synthese vornehmen. Nach der Optimierung der Synthesebedingungen wagten wir den Schritt in unseren 200-Liter-Synthesereaktor.

Januar 2021: Optimierter Prozess für den Negativ-Photoresist Atlas 46

Die Entwicklungsarbeiten an unserem neuen Photoresist Atlas 46 wurden fortgeführt. Anhand eigener Ergebnisse oder durch Hinweise und Wünsche der Anwender wurde die Rezeptur und die Eigenschaften verbessert.

Juli 2020: Bottom-Resist AR-BR 5400, das „Arbeitspferd“ für Zweilagenprozesse

In Zusammenarbeit mit dem Förderverein Centrum für intelligente Sensorik (CiS, Erfurt) entwickelten wir 2004 den ersten Bottomresist (BR). Dieser Bottom-Resist ist nicht lichtempfindlich, jedoch wässrig alkalisch entwickelbar.

Januar 2020: Schwarzlack SX AR-N 8355/7

Optisch dichte Resists spielen in der Industrie eine zunehmend größere Rolle. In der optischen Industrie, der Automobil-Industrie und bei der Drehgeber-Herstellung werden sogenannte Schwarzlacke benötigt.

Oktober 2019: Medusa 82 UV

Schon im Januar 2019 haben wir Medusa 82 UV zum Resist des Monats gekürt. Damals wurden erste Ergebnisse der Anwendung als Photoresist gewürdigt. Nun möchten wir Ergebnisse über den Einsatz in der Grauton-Lithographie vorstellen, die auch auf der MNE 2019 in Griechenland gezeigt wurden.

Oktober 2018: Medusa 82 – Stabiler und empfindlicher als der HSQ

Allresist ist es gelungen, eine Alternative zum HSQ zu entwickeln. Durch eine neue Modifikation des Polymers lässt sich der Resist Medusa sehr einfach handhaben.