Aktueller Resist für die Startseite
Nach der coronabedingt lediglichen online-Präsenz in den letzten beiden Jahren nahm Allresist endlich wieder einmal live an der EIPBN in New Orleans teil. Auf unserem Stand erlebten wir ein großes Interesse an unseren Resists.
Ausnahmsweise stellen wir heute in der Rubrik „Resist des Monats“ einen neuen PMMA-Enwickler vor, dessen potentielle Möglichkeiten auch unsere Anwender begeistern werden. Dieser Entwickler ist eine Mischung aus Isopropanol und Wasser – das mag zunächst erstaunlich klingen, da beide Komponenten einzeln eine PMMA-Schicht nicht angreifen.
Phoenix 81 wurde im Rahmen eines Eurostar-Projektes gemeinsam mit der Swisslitho AG (jetzt Heidelberg Instruments Nano) entwickelt. Mit dem NanoFrazor lassen sich durch thermische Rastersonden-Lithographie (thermal scanning probe lithography oder t-SPL) bis zu 10 nm kleine Strukturen schreiben, indem eine heiße Nadel in die Resistschicht taucht und diese an der Stelle verdampft (siehe u.a. AR NEWS, 42. Ausgabe).
Viele Anwender nutzen mittlerweile die Leitfähigkeit der Electra-Schichten für ihre Prozesse und Technolgien. Seit der Einführung in den Markt 2018 wurden die Synthese und die Aufarbeitung von Electra stetig verbessert. Es gelang z.B., die Leitfähigkeit im Zeitraum von 2018 bis 2020 um den Faktor 5 zu erhöhen.
Für die Herstellung galvanischer Bauteile ist der SU-8 wegen seine exzellenten Strukturgüte prinzipiell geeignet. Jedoch spricht die außerordentlich schwierige Entfernung der Resiststrukturen nach der Galvanik gegen einen Einsatz.
Mittlerweile hat sich der CSAR 62 weltweit etabliert und die Nachfrage steigt immer weiter. Da wir das Polymer selber herstellen, mussten wir ein Skaling Up der Synthese vornehmen. Nach der Optimierung der Synthesebedingungen wagten wir den Schritt in unseren 200-Liter-Synthesereaktor.
Die Entwicklungsarbeiten an unserem neuen Photoresist Atlas 46 wurden fortgeführt. Anhand eigener Ergebnisse oder durch Hinweise und Wünsche der Anwender wurde die Rezeptur und die Eigenschaften verbessert.
In Zusammenarbeit mit dem Förderverein Centrum für intelligente Sensorik (CiS, Erfurt) entwickelten wir 2004 den ersten Bottomresist (BR). Dieser Bottom-Resist ist nicht lichtempfindlich, jedoch wässrig alkalisch entwickelbar.
Optisch dichte Resists spielen in der Industrie eine zunehmend größere Rolle. In der optischen Industrie, der Automobil-Industrie und bei der Drehgeber-Herstellung werden sogenannte Schwarzlacke benötigt.
Schon im Januar 2019 haben wir Medusa 82 UV zum Resist des Monats gekürt. Damals wurden erste Ergebnisse der Anwendung als Photoresist gewürdigt. Nun möchten wir Ergebnisse über den Einsatz in der Grauton-Lithographie vorstellen, die auch auf der MNE 2019 in Griechenland gezeigt wurden.