Resist-Wiki Prozesschemikalien Entwickler

Entwicklerkaskade

Für eine optimale Ausnutzung der Entwickler und für die höchste Sauberkeit bei der Tauchentwicklung wird die Nutzung einer Kaskade empfohlen. Die Entwicklung erfolgt oft in nur einem Behälter.
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Weitere experimentelle Entwickler für AR-P 617

Für einige Anwendungen sind universelle Entwickler, d.h. Entwickler die sich für mehrere Resistfamilien gleichzeitig gut eignen, von Vorteil. Mehrlagige Systeme können dadurch in einem Schritt entwickelt werden, ein Wechsel des Entwicklers ist nicht mehr nötig.
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Neue Entwickler für PMMAcoMA (AR-P 617, 50 kV)

X AR 600-50/2 ist ein neuer, sehr empfindlicher und selektiver Entwickler für AR-P 617. Der Dunkelabtrag ist auch bei längeren Entwicklungszeiten sehr gering. Schichten von PMMA oder CSAR 62 werden nicht angegriffen was insbesondere für Mehrlagenprozesse von Bedeutung ist.
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Evaluierung diverser Entwickler für E-Beam belichtete CSAR 62-Schichten (100kV)

Zur Evaluierung verschiedener Entwickler für CSAR 62 wurden von Dr. Lothar Hahn (Karlsruher Institut für Technologie (KIT), Institut für Mikrostrukturtechnik) mit 100kV E-Beam belichtete Substrate zur Verfügung gestellt (Dosisvariationen).
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Neue Entwickler für AR-P 617

Unser hochempfindlicher E-Beamresist AR-P 617 wird häufig in Zweilagenprozessen, meist in Kombination mit PMMA, für die Herstellung von lift-off Architekturen, z.B. T-Gates, verwendet.
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Alkalischer Entwickler für Aluminiumsubstrate

Einige Kunden verwenden alkaliempfindliche Aluminiumsubstrate. Das führt zu Problemen wenn die Metalloberfläche im Prozess nicht angeätzt werden darf. Während unser MIF-Entwickler (AR 300-40er) und Entwickler AR 300-26 Aluminiumoberflächen stark angreifen, bleibt die Metalloberfläche bei Einsatz des Entwicklers AR 300-35 weitestgehend unverändert.
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Neuer Entwickler für AR-P 5320

In unserer Produktinformation empfehlen wir für die Entwicklung von AR-P 5320, unserem positiven Photoresist für Lift-off-Anwendungen, den Entwickler AR 300-26. Einige Anwender bevorzugen jedoch den Einsatz von MIF-Entwicklern.
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Entwickler AR 300-35 für alkaliempfindliche Substrate

Der Einsatz wässrig-alkalischer Entwickler auf alkaliempfindlichen Substraten, wie z.B. Aluminium ist problematisch, da während des Entwicklungsschritts auch das Substrat angegriffen wird.
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Entwickler für CSAR 62 (AR-P 6200)

Zur Entwicklung belichteter CSAR 62 Resistschichten, üblicherweise Tauchentwicklung mit Entwicklungszeiten von etwa 30-60 Sekunden, eignen sich die Entwickler AR 600-546, 600-548 und 600-549.
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Entwicklertypen

Es gibt 2 Hauptgruppen von Entwicklern: die lösemittelhaltigen und die wässrig-alkalischen Entwickler. Die Lösemittelhaltigen sind vor allem für die PMMA-E-Beamresists (→ Prozessablauf E-
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