Resist-Wiki Prozesschemikalien Remover

Neuer Safer Solvent Remover AR 300-76

Eine weitere Neuentwicklung, der ebenfalls universell einsetzbare Remover AR 300-76 hat im Vergleich zu AR 600-71 einen viel höheren Flammpunkt von 103°C.
mehr lesen »

Neuer Lösemittel Remover

Ein neuer, starker Lösemittel Remover AR 600-71 aus 1.3-Dioxolan und 1-Methoxy-2-propanol ist in der Lage, schon bei Raumtemperatur gehärtete Resist-Schichten zu lösen. Bemerkenswert ist,
mehr lesen »

Alternativen zu NMP-haltigen Removern

Am 25.09.09 ist die Verordnung (EG) Nr. 790/2009 zur Änderung der EG-GHS-Verordnung (Nr. 1272/2008) über die Einstufung und Kennzeichnung von Stoffen und Gemischen in Kraft getreten.
mehr lesen »

Wässrig-alkalische Remover

Die einfachsten, jedoch sehr wirkungsvollen Remover sind Natronlauge (NaOH) bzw. Kalilauge (KOH). Schon eine 4 %ige KOH löst fast alle novolakbasierten Photo- und E-Beam Resists innerhalb einiger Sekunden.
mehr lesen »

Lösemittel Remover

Der klassische Remover ist das Aceton. Als Reinigungsmittel zusammen mit Isopropanol (IPA) kommt es in fast jedem Labor zum Einsatz. Für nicht oder nur wenig gehärtete Schichten (bis 120 °C)
mehr lesen »

Remover Allgemein

Remover haben die Aufgabe, die Lackstrukturen bzw. -reste nach Abschluss des gewünschten technologischen Schrittes (Dotieren, Ätzen u.a.) restlos zu entfernen. Zu Beginn der Photolithographie wurden kräftige Remover eingesetzt,
mehr lesen »

« Zurück zur Übersicht