Bei der Bestrahlung und folgenden Entwicklung großer Strukturen (> 1 µm) treten gelegentlich Partikel auf den freientwickelten Flächen auf. Bei kleinen Strukturen wird dieses Phänomen nicht beobachtet. Wird jedoch nach dem Entwickeln erst ein kurzes Abspülen in MIBK oder einem PMMA-Entwickler AR 600-56 oder AR 600-55 durchgeführt, kann dieser Effekt beseitigt werden. Danach sollte der Stopper AR 600-60 wie üblich verwendet werden.
Eine weitere Möglichkeit ist eine präventiv höhere Bestrahlungsdosis der großen Strukturen von ca. 20 %. Die höhere Dosis beseitigt die Partikel, es kann dann normal entwickelt werden.
E-Beam- Resist Positiv